Б 24 Барабошкин, А. Н. Электроосаждение вольфрама и его сплавов из фторидных расплавов [] / А. Н. Барабошкин, Н. А. Салтыкова, Б. Г. Семенов> // Тр. / Ин-т электрохимии УНЦ АН СССР. - 1976. - Вып. 24 : Высокотемпературные электролиты. - С. 28-31. - Библиогр.: 8 назв. Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ ВОЛЬФРАМА -- K -- ВОЛЬФРАМ -- W -- СПЛАВ W-Ni-Cu -- W-Ni-Cu -- Ni -- Cu -- НИКЕЛЬ -- МЕДЬ -- РАСПЛАВ ФТОРИДНЫЙ -- LiF-NaF-KF -- LiF -- NaF -- KF -- ФТОРИД ЛИТИЯ -- ФТОРИД НАТРИЯ -- ФТОРИД КАЛИЯ -- ФТОРИД РАСПЛАВЛЕННЫЙ -- Li -- Na Аннотация: Изучено влияние концентрации вольфрама в расплаве, температуры, плотности тока, материала катода на структуру катодных осадков вольфрама. Найдены условия получения сплошных осадков вольфрама толщиной до 2 мм. Микротвердость осадков 440-500 кГ/мм(2). Электролизом расплава, содержащего ионы вольфрама, меди и никеля, получены тройные сплавы вольфрам-никель-медь. Сплавы с содержанием вольфрама выше 80 вес. % - однофазные, имеют ОЦК-решетку и осаждаются в виде сплошных слоев. При содержании вольфрама ниже 30 вес. % получаются сплавы с ГЦК-решеткой в виде дендритов, которые по форме не отличаются от дендритов меди и никеля |