Э 45 Электроосаждение кремния из фторидно-хлоридных расплавов [] = Electrodeposition of silicon in fluoride-chloride melts / Д. Б. Фроленко, З. С. Мартемьянова, А. Н. Барабошкин, С. В. Плаксин // Расплавы. - 1993. - N 5. - С. 42-49. - Библиогр.: 4 назв. . - ISSN 0235-0106 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ КРЕМНИЯ -- КРЕМНИЙ -- Si -- РАСПЛАВ ФТОРИДНО-ХЛОРИДНЫЙ -- LiF-KCL-CsCl-K2SiF6 -- LiF -- KCL -- CsCl -- K2SiF6 -- Li -- ФТОРИД ЛИТИЯ -- КАЛИЙ -- ХЛОРИД КАЛИЯ -- Cs -- ЦЕЗИЙ -- ХЛОРИД ЦЕЗИЯ -- РОСТ КРИСТАЛЛОВ -- ЗАРОДЫШЕОБРАЗОВАНИЕ КРИСТАЛЛОВ -- КРИСТАЛЛЫ -- ЛИТИЙ Аннотация: Найдены стабильные по концентрации кремния расплавы и показана возможность получения из этих расплавов моно- и поликристаллических кремниевых осадков. Получена температурная зависимость структуры кремниевых осадков на графите, стеклоуглероде и монокристаллическом кремнии с ориентацией {100} и {111}. Большое внимание уделено зарождению и росту двойниковых кристаллов на монокристаллических кремниевых подложках. Представлена попытка объяснить форму двойниковых кристаллов и установить кристаллографическое соответствие этих кристаллов с монокристаллической матрицей |