E 43 Electrodeposition of silicon from fluoride-chloride melts [Text] / D. B. Frolenko, Z. S. Martem'yanova, A. N. Baraboshkin, S. V. Plaksin // Melts. - 1993. - V. 7, N 5. - P308-314. - Bibliogr.: 4 ref. Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ КРЕМНИЯ -- КРЕМНИЙ -- Si -- РАСПЛАВ ФТОРИДНО-ХЛОРИДНЫЙ -- LiF-KCL-CsCl-K2SiF6 -- LiF -- KCL -- CsCl -- K2SiF6 -- ЛИТИЙ -- ФТОРИД ЛИТИЯ -- ХЛОРИД КАЛИЯ -- ХЛОРИД ЦЕЗИЯ -- K -- Cs -- КАЛИЙ -- ЦЕЗИЙ -- РОСТ КРИСТАЛЛОВ -- КРИСТАЛЛЫ -- ЗАРОДЫШЕОБРАЗОВАНИЕ КРИСТАЛЛОВ Аннотация: Найдены стабильные по концентрации кремния расплавы и показана возможность получения из этих расплавов моно- и поликристаллических кремниевых осадков. Получена температурная зависимость структуры кремниевых осадков на графите, стеклоуглероде и монокристаллическом кремнии с ориентацией {100} и {111}. Большое внимание уделено зарождению и росту двойниковых кристаллов на монокристаллических кремниевых подложках. Представлена попытка объяснить форму двойниковых кристаллов и установить кристаллографическое соответствие этих кристаллов с монокристаллической матрицей |