Вид документа : Статья из журнала Шифр издания : 54/Ф 16 Автор(ы) : Жук С. И., Минченко Л. М., Чемезов О. В., Малков В. Б., Исаков А. В., Зайков Ю. П. Заглавие : Фазозарождение кремния на стеклоуглероде в расплаве KF-KCl-K2SIF6 Место публикации : Chimica Techno Acta . - 2015. - Vol. 2, № 1. - С. 42-51 ББК : 54 Предметные рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): хроноамперометрия--зарождение кристаллов --поверхностные явления--стеклоуглеродная подложка Аннотация: Методом хроноамперометрии изучено зарождение кремния на стеклоуглеродной подложке в расплаве KF-KCl-K2SiF6 при температуре 675 ºС. Выявлено прогрессивное фазозарождение кремния. Из SEM-микрофотографий зародышей кремния, выращенных на стеклоуглеродной подложке в потенциостатическом режиме в интервале потенциалов от -0,005 до -0,03 В в расплаве KF-KCl-K2SiF6 при Т = 675 ºС, видно, что в условиях одного эксперимента они имеют размеры, различающиеся в несколько раз, что подтверждает прогрессирующий характер возникновения зародышей кремния. Показано, что когда к рабочему электроду при прочих равных условиях прикладывается более отрицательное значение потенциала относительно кремниевого электрода сравнения, то количество сформировавшихся зародышей на поверхности электрода растет Доп.точки доступа: Жук, С. И.; Минченко, Л. М.; Институт высокотемпературной электрохимии УрО РАН; Чемезов, О. В.; Малков , В. Б.; Исаков, А. В.; Зайков, Ю. П.