Вид документа : Статья из журнала Шифр издания : 54/H 99 Автор(ы) : Kuznetsov M. V., Zhuravlev M. V., Shalaeva E. V., Gubanov V. A. Заглавие : Influence of the deposition parameters on the composition, structure and X-ray photoelectron spectroscopy spectra of Ti-N films Место публикации : Thin Solid Films. - 1992. - V. 215, N 1. - С. 1-7. - ISSN 0040-6090. - ISSN 0040-6090 ББК : 54 Предметные рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): осаждение--пленки--спектроскопия фотоэлектронная--фотоэлектронная спектроскопия--структура кристаллическая--кристаллическая структура--спектроскопия--спектроскопия рентгеновская--рентгеновская спектроскопия--ti-n--титан--азот--системы двойные--двойные системы Доп.точки доступа: Kuznetsov, M. V.; Кузнецов Михаил Владимирович; Zhuravlev, M. V.; Shalaeva, E. V.; Губанов Владимир Александрович; Gubanov, V. A.