Вид документа : Статья из журнала Шифр издания : 54/Ф 45 Автор(ы) : Фетисов А. В., Кузнецов М. В. Заглавие : Анализ электронных состояний оксидного слоя на поверхности ультрадисперсной меди методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии Параллельн. заглавия :XPS Analysis of Electronic States in Oxide Layer on Ultradisperse Copper Surface Место публикации : Журнал прикладной спектроскопии. - 2009. - Т. 76, № 4. - С. 552-556: табл., граф. Примечания : Библиогр.: с. 556 (6 назв.) ISSN: 0514-7506 ББК : 54 Предметные рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): медь ультрадисперсная--метод рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии--оксид меди--тонкие пленки Аннотация: Методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (РФЭС) проведены исследования электронных состояний оксида меди, покрывающего тонким (2.0 ± 0.5 нм) слоем частицы ультрадисперсной меди. Показано, что уменьшение толщины CuO-пленки приводит к экстремальному поведению параметров РФЭС-спектра в отличие от их монотонных изменений для CuO-наночастиц. Подобное поведение спектральных параметров объяснено конкурирующим влиянием на изучаемую систему двух факторов: размера и электростатического поля материала подложки Держатели документа: Центральная научная библиотека УрО РАН Доп.точки доступа: Кузнецов, М. В.