539.2 H 22 Handbook of Thin Film Deposition Processes and Techniques : principles, Methods, Equipment and Applications / ред. K. Seshan. - 2nd ed. - Norwich ; New York : Noyes Publications, 2002. - XXVIII, 629 с. : табл., схем., граф., ил. - (Materials Science and Process Technology). - Библиогр. в конце разд.- Указ.: с. 609-629. - ISBN 0-8155-1442-5 : 6259.96 р.
РУБ 539.2 Рубрики: ФИЗИКА--ФИЗИКА ТВЕРДОГО ТЕЛА--КРИСТАЛЛОГРАФИЯ--СПРАВОЧНИКИ ТЕХНОЛОГИЯ МЕТАЛЛОВ. МАШИНОСТРОЕНИЕ. ПРИБОРОСТРОЕНИЕ--МЕТАЛЛОВЕДЕНИЕ Для заказа издания воспользуйтесь услугами МБА |