Вид документа : Однотомное издание Шифр издания : 539.2/H 22 Заглавие : Handbook of Thin Film Deposition Processes and Techniques : Principles, Methods, Equipment and Applications . -2nd ed. Выходные данные : Norwich; New York: Noyes Publications, 2002 Колич.характеристики :XXVIII, 629 с.: табл., схем., граф., ил. Серия: Materials Science and Process Technology Примечания : Библиогр. в конце разд.- Указ.: с. 609-629 ISBN, Цена 0-8155-1442-5: 6259.96 р. ГРНТИ : 53.49 ББК : 539.212.6я22 + К202.7я22 Предметные рубрики: ФИЗИКА-- ФИЗИКА ТВЕРДОГО ТЕЛА-- КРИСТАЛЛОГРАФИЯ ТЕХНОЛОГИЯ МЕТАЛЛОВ. МАШИНОСТРОЕНИЕ. ПРИБОРОСТРОЕНИЕ-- МЕТАЛЛОВЕДЕНИЕ Экземпляры :ч/з(1) Свободны : ч/з(1) Доп.точки доступа: Seshan, Krishna \ред.\ |