Вид документа : Статья из журнала Шифр издания : 54/F 12 Автор(ы) : Marc-André Coulombe, Gervais Soucy, Loig Rivoaland, Lynne Davies Заглавие : Factors Leading to the Formation of a Resistive Thin Film at the Bottom of Aluminum Electrolysis Cells Место публикации : Metallurgical and Materials Transactions B. - 2016. - Vol. 47, № 2. - С. 1280-1295 ББК : 54 Предметные рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): электролиз--пленки--al Доп.точки доступа: Marc-André Coulombe; Gervais Soucy; Loig Rivoaland; Lynne Davies