И 88 Использование имплантации ионов водорода и последующего высокотемпературного отжига для уменьшения дефектности эпитаксиального кремния на сапфире / П. А. Александров [и др.] // Нано- и микросистемная техника . - 2009. - № 9. - С. 30-32 : рис., табл. - Библиогр. : с. 32 (11 назв.) . - ISSN 1813-8586 Рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ИМПЛАНТАЦИЯ -- КРЕМНИЙ-НА-САПФИРЕ -- ОТЖИГ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНЫЙ |