Вид документа : Статья из журнала Шифр издания : 620.3/Т 38 Автор(ы) : Ефремов А. М., Светцов В. И., Пивоваренок С. А., Дунаев А. В. Заглавие : Технология плазменного наноразмерного травления металлов и полупроводников в бинарных хлорсодержащих газовых смесях Место публикации : Нанотехника. - 2010. - № 2 . - С. 77-81: рис. - ISSN 1816-4498. - ISSN 1816-4498 Примечания : Библиогр. : с. 81 (3 назв.) УДК : 620.3 ББК : 623.7 Предметные рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): травления металлов и полупроводников--смеси газовые хлорсодержащие--производство имс Аннотация: Неравновесная низкотемпературная газоразрядная плазма (ННГП) в среде хлорсодержащих газов применяется при проведении процессов «сухого» травления и очистки поверхности полупроводниковых пластин и функциональных слоев ИМС в тех случаях, когда использование жидкостных методов ограничивается высокими требованиями к чистоте, разрешению и воспроизводимости процесса [1, 2]. В качестве плазмообразующих сред традиционно использовались СС14, BCl3 и SiCl4, существенным недостатком которых является полимеризация и/или высаживание ненасыщенных продуктов плазмохимических реакций на внутренней поверхности реактора и обрабатываемого материала. Молекулярный хлор свободен от этих недостатков, однако его применение также осложнено рядом причин. Во-первых, это высокая коррозионная активность по отношению к конструкционным материалам технологического оборудования, неудобства хранения и транспортировки [1, 3]. Во-вторых, при характерных режимах работы промышленных плазмохимических реакторов ННГП в хлоре характеризуется высокими степенями диссоциации молекул CI2, что не позволяет достигать высокой анизотропии процесса. В то же время, последний параметр является актуальным при переходе к субмикронным технологиям в производстве ИМС Держатели документа: Центральная научная библиотека УрО РАН Доп.точки доступа: Ефремов, А. М.; Светцов, В. И.; Пивоваренок, С. А.; Дунаев, А. В.