Вид документа : Статья из журнала Шифр издания : 621.382.002/Т 56 Автор(ы) : Томош К. Н. Заглавие : Характеристики и использование вч и свч разрядов при создании твердотельных полупроводниковых приборов Место публикации : Нано- и микросистемная техника. - 2014. - № 5. - С. 47-52: рис. - ISSN 1813-8586. - ISSN 1813-8586 Примечания : Библиогр.: с. 52 (8 назв.) УДК : 621.382.002 ББК : 623.7 Предметные рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): плазма--свч разряд--вч разряд--реактор--магнитное поле--травление Аннотация: Представлена информация обзорного характера о применении плазмы ВЧ и СВЧ разряда в технологических процессах производства изделий электронной техники. Указаны области технического применения СВЧ разрядов и основные характеристики структур, формируемых под их воздействием