Вид документа : Статья из журнала Шифр издания : 620.3/Б 86 Автор(ы) : Бокарев В. П., Горнев Е. С. Заглавие : Применение контактной литографии в процессах переноса субмикрометрового изображения при изготовлении мэмс и пав-устройств Место публикации : Нано- и микросистемная техника . - 2010. - № 7 . - С. 23-27: табл., рис. - ISSN 1813-8586. - ISSN 1813-8586 Примечания : Библиогр. : с. 27 (9 назв.) УДК : 620.3 ББК : 623.7 Предметные рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): литография контактная--мэмс--пав-устройства Аннотация: Рассмотрены вопросы применимости контактной, проекционной и импринт литографии при изготовлении МЭМС и ПАВ-устройств с субмикрометровыми проектными нормами Держатели документа: Центральная научная библиотека УрО РАН Доп.точки доступа: Горнев, Е. С.