Е 83 Есина, Н. О. Влияние кислородосодержащих примесей на структуру вольфрама, полученного электролизом расплавленных солей на подложке из монокристаллического молибдена [] / Н. О. Есина, А. М. Молчанов, М. Г. Калинин> // 11-я Конф. по физической химии и электрохимии расплавленных и твердых электролитов: тез. докл. / Ин-т высокотемператур. электрохимии УрО РАН. - 1998. - Т. 1: Расплавленные электролиты. - С. 194. Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ПРИМЕСИ КИСЛОРОДОСОДЕРЖАЩИЕ -- КИСЛОРОД -- СТРУКТУРА -- ВОЛЬФРАМ -- W -- ПОЛУЧЕНИЕ ВОЛЬФРАМА -- ЭЛЕКТРОЛИЗ -- СОЛИ РАСПЛАВЛЕННЫЕ -- МОЛИБДЕН МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИЙ -- Mo -- ПОДЛОЖКА МОЛИБДЕНОВАЯ -- ХИМИЯ |
О-62 Определение огранки двойниковых пирамид в монокристаллических осадках вольфрама, полученных электролизом поливольфраматных расплавов [] / Е. С. Коровенкова, Н. О. Есина, А. М. Молчанов, С. В. Плаксин> // 11-я Конф. по физической химии и электрохимии расплавленных и твердых электролитов: тез. докл. / Ин-т высокотемператур. электрохимии УрО РАН. - 1998. - Т. 1: Расплавленные электролиты. - С. 195. Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ОПРЕДЕЛЕНИЕ ОГРАНКИ -- ПИРАМИДА ДВОЙНИКОВАЯ -- ОСАДКИ МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИЕ -- ВОЛЬФРАМ -- W -- ПОЛУЧЕНИЕ ВОЛЬФРАМА -- ЭЛЕКТРОЛИЗ -- РАСПЛАВ ПОЛИВОЛЬФРАМАТНЫЙ -- ПОЛИВОЛЬФРАМАТ -- ВОЛЬФРАМАТ -- ПОДЛОЖКА МОЛИБДЕНОВАЯ -- Mo -- МОЛИБДЕН МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИЙ -- ХИМИЯ |
З-38 Захарьяш, С. М. Перенапряжение зарождения кристаллов натрий-литий-вольфрамовых бронз на медной подложке [] / С. М. Захарьяш, К. А. Калиев, А. Н. Барабошкин> // Физическая химия и электрохимия расплавленных и твердых электролитов: Ежегодник-80 / Ин-т электрохимии УНЦ АН СССР. - 1981. - С. 31-35. - Библиогр.: 6 назв. Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ЗАРОДЫШЕОБРАЗОВАНИЕ КРИСТАЛЛОВ -- Na0.67Li0.002WO3 -- КРИСТАЛЛЫ ВОЛЬФРАМОВЫХ БРОНЗ -- БРОНЗЫ ВОЛЬФРАМОВЫЕ -- БРОНЗЫ НАТРИЙ-ЛИТИЙ-ВОЛЬФРАМОВЫЕ -- ПОДЛОЖКА МЕДНАЯ -- МЕДЬ -- Cu -- Na2WO4 -- Li2WO4 -- WO3 -- Na2WO4-Li2WO4-WO3 -- ВОЛЬФРАМАТ НАТРИЯ -- ВОЛЬФРАМАТ ЛИТИЯ -- ОКСИД ВОЛЬФРАМА -- ВОЛЬФРАМ -- W -- Na -- Li -- НАТРИЙ -- ЛИТИЙ |
П 37 Плаксин, С. В. Структура эпитаксиальных осадков вольфрама, полученных электролизом вольфраматного расплава [] / С. В. Плаксин, А. Н. Барабошкин> // Электродные процессы в галогенидных и оксидных электролитах: (Высокотемпературная электрохимия): Сб. ст. / УНЦ АН СССР. - 1981. - С. 22-27. - Библиогр.: 5 назв. Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): СТРУКТУРА ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ ОСАДКОВ -- ОСАДКИ ЭПИТАКСИАЛЬНЫЕ -- ВОЛЬФРАМ -- W -- ОСАДКИ -- РАСПЛАВ ВОЛЬФРАМАТНЫЙ -- ЭЛЕКТРОЛИЗ РАСПЛАВОВ -- Na -- Na2WO4 -- WO3 -- 0.8Na2WO4-0.2WO3 -- Na2WO4-WO3 -- ВОЛЬФРАМАТ НАТРИЯ -- НАТРИЙ -- ДЕФЕКТ КРИСТАЛЛИЧЕСКИЙ -- ПОДЛОЖКА МОЛИБДЕНОВАЯ -- МОЛИБДЕН -- Mo Аннотация: Электролизом расплава 0.8Na2WO4-0.2WO3 при температурах 850-950 С на монокристаллических подложках из молибдена с ориентациями (100), (110), (111), (112) при катодных плоскостях тока 10-100 мА/см2 получены эпитаксиальные монокристаллические слои вольфрама толщиной до 500 мкм. Морфология поверхности осадков изменяется с условиями электролиза. Наблюдаются два основных типа дефектов роста: ямки, форма которых отражает симметрию грани, и пирамиды, форма которых не отвечает симметрии грани, хотя их взаимное расположение и отвечает этой симметрии |
С 87 Структура сплошных осадков вольфрама, полученных электролизом расплава Na2WO4-WO3 [] / А. Н. Барабошкин, З. С. Мартемьянова, А. Ф. Шунайлов, Т. Б. Ксенофонтова, Л. Н. Заворохин> // Тр. / Ин-т электрохимии УНЦ АН СССР. - 1974. - Вып. 21 : Электрохимия расплавленных солевых и твердых электролитов. - С. 66-71. - Библиогр.: 7 назв. Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): Na2WO4-WO3 -- Mo -- Ni -- СПЛАВ ВМ-1 -- ФОЛЬГА МОЛИБДЕНОВАЯ -- ФОЛЬГА ВОЛЬФРАМОВАЯ -- Na2WO4 -- WO3 -- Na -- W -- НАТРИЙ -- ВОЛЬФРАМ -- ВОЛЬФРАМАТ НАТРИЯ -- ОКСИД ВОЛЬФРАМА -- ОСАДКИ СПЛОШНЫЕ -- ЭЛЕКТРОЛИЗ РАСПЛАВОВ -- РАСПЛАВ ВОЛЬФРАМАТНЫЙ -- СТРУКТУРА ОСАДКОВ -- ПОДЛОЖКА МЕДНАЯ -- ПОДЛОЖКА МОЛИБДЕНОВАЯ -- МЕДЬ -- МОЛИБДЕН -- НИКЕЛЬ -- ГРАФИТ -- Cu Аннотация: Изучена структура сплошных осадков вольфрама, полученных электролизом расплавленной смеси вольфрамата натрия и трехокиси вольфрама. Показано, что при температурах 815-900 С и плотностях тока 0,01-0,10 а/см2 в открытой ванне могут быть получены покрытия на меди, никеле, графите, молибдене и вольфраме. Структура осадков в значительной степени определяется структурой подложки |
Ш 25 Шардаков, Н. Т. Кинетика нанесения Cu и Ag на Ti в ионных расплавах / Н. Т. Шардаков, Г. Н. Шардакова> // Физика и химия обработки материалов. - 2014. - № 2. - С. 83-87. - Библиогр.: с. 87 (15 назв.) Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): МЕДНЕНИЕ -- СЕРЕБРЕНИЕ -- ПОДЛОЖКА -- СОЛЕВОЙ РАСПЛАВ -- ПОКРЫТИЯ -- КИНЕТИКА ПРОЦЕССА Аннотация: Изучена кинетика осаждения Cu и Ag из расплавов солей CuCl-NaCl и AgCl-CaCl на титановую2 подложку. Определены кинетические уравнения и параметры термической активации процесса (энергия и предэкспоненциальный множитель). Установлено, что энергия активации меднения составляет 361±1 кДж/моль, серебрения - 13,3±0,2 кДж/моль. |
Ф 16 Фазозарождение кремния на стеклоуглероде в расплаве KF-KCl-K2SIF6 / С. И. Жук, Л. М. Минченко, О. В. Чемезов, В. Б. Малков , А. В. Исаков, Ю. П. Зайков> // Chimica Techno Acta . - 2015. - Vol. 2, № 1. - С. 42-51 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ХРОНОАМПЕРОМЕТРИЯ -- ЗАРОЖДЕНИЕ КРИСТАЛЛОВ -- ПОВЕРХНОСТНЫЕ ЯВЛЕНИЯ -- СТЕКЛОУГЛЕРОДНАЯ ПОДЛОЖКА Аннотация: Методом хроноамперометрии изучено зарождение кремния на стеклоуглеродной подложке в расплаве KF-KCl-K2SiF6 при температуре 675 ºС. Выявлено прогрессивное фазозарождение кремния. Из SEM-микрофотографий зародышей кремния, выращенных на стеклоуглеродной подложке в потенциостатическом режиме в интервале потенциалов от -0,005 до -0,03 В в расплаве KF-KCl-K2SiF6 при Т = 675 ºС, видно, что в условиях одного эксперимента они имеют размеры, различающиеся в несколько раз, что подтверждает прогрессирующий характер возникновения зародышей кремния. Показано, что когда к рабочему электроду при прочих равных условиях прикладывается более отрицательное значение потенциала относительно кремниевого электрода сравнения, то количество сформировавшихся зародышей на поверхности электрода растет |
Г 15 Галашев, А. Е. Формирование капли ртути на поверхности графена. компьютерный эксперимент / А. Е. Галашев> // Коллоидный журнал. - 2015. - Т. 77, № 5. - 593-602. . - Библиогр.: с. 601-602 (39 назв.) Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ГРАФЕН -- ПОДЛОЖКА -- ГАЗЫ -- СПЕКТРОСКОПИЯ Аннотация: Методом молекулярной динамики исследован быстрый нагрев пленки ртути на графене, содержащем дефекты СтоунаУэйлса. Гидрированные края графенового листа выдерживали рост температуры на 800 K. По мере сворачивания пленки в каплю горизонтальная компонента коэффициента самодиффузии атомов Hg монотонно уменьшалась, а вертикальная компонента проходила через глубокий минимум, отражающий начало поднятия капли над подложкой. Формирование капли проявило себя в идущем вверх уширении вертикального профиля плотности и увеличении числа пиков в нем. При этом существенно сократилась протяженность функции радиального распределения ртути, выросла интенсивность ее первого пика. Образование капли приводит к уменьшению тупого краевого угла смачивания. Температурные изменения в графене выразились в росте интенсивности дополнительных пиков углового распределения ближайших соседей, колебательном характере напряжений, действующих в его плоскости, и почти линейном росте шероховатости. |