Р 39 Рентгеновская фотоэлектронная дифракция адсорбционных структур на поверхности Nb (110) и Ti (0001) [] / М. В. Кузнецов, Е. В. Шалаева, Н. И. Медведева, А. Л. Ивановский> // Химия поверхности и нанотехнология: Вторая Всерос. конф. (с междунар. участием) (СПб. - Хилово, 23-28 сент. 2002 г.): Материалы конф. - 2002. - С. 164-165 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ДИФРАКЦИЯ РЕНТГЕНОВСКАЯ -- РЕНТГЕНОВСКАЯ ДИФРАКЦИЯ -- ДИФРАКЦИЯ ФОТОЭЛЕКТРОННАЯ -- ФОТОЭЛЕКТРОННАЯ ДИФРАКЦИЯ -- АДСОРБЦИОННАЯ СТРУКТУРА -- СТРУКТУРА АДСОРБЦИОННАЯ -- ПОВЕРХНОСТИ -- Nb -- Ti -- НИОБИЙ -- ТИТАН -- СВЕРХТОНКИЕ СЛОИ -- СЛОИ СВЕРХТОНКИЕ -- СПЕКТРОСКОПИЯ -- НАНОСЛОИ |
Е 64 Еняшин, А. Н. Атомная структура, стабильность и электронные свойства фторированных и алмазоподобных углеродных нанослоев / А. Н. Еняшин, А. Л. Ивановский> // Теоретическая и экспериментальная химия. - 2012. - Т. 48, № 5. - С. 303-307 : ил. - Библиогр.: с. 306 (22 назв.) Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): НАНОСЛОИ УГЛЕРОДА -- ФТОРИРОВАНИЕ -- СТРУКТУРА ЭЛЕКТРОННАЯ -- МОДЕЛИРОВАНИЕ Аннотация: Представлены результаты квантовохимического моделирования фторированных алмазоподобных углеродных нанослоев. На основе расчетных данных анализируются их сравнительная стабильность, структурные параметры и особенности электронного строения, которые сопоставлены с таковыми для фторированного графена (флюорографена) |
С 38 Синтез наноразмерных слоев / Л. А. Акашев, Н. А. Попов, В. А. Кочедыков, В. Г. Шевченко> // Письма в Журнал технической физики. - 2013. - Т. 39, № 3. - С. 26-32 : ил. - Библиогр.: с. 31-32 (13 назв.) Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): НИТРИД АЛЮМИНИЯ -- ЭЛЛИПСОМЕТРИЯ -- НАНОСЛОИ Аннотация: Эллипсометрическим методом исследовано взаимодействие поверхности поликристаллического алюминия с азотом при медленном нагреве до температуры 623oC и давлении 1.25 atm. Показано, что процесс образования наноразмерного сплошного слоя нитрида алюминия происходит в интервале температур 520-580oC и выше. Максимальная толщина синтезированного наноразмерного слоя нитрида алюминия составляла 32 nm. Образование нитрида на поверхности алюминия подтверждено методом ИК-спектроскопии на порошках с удельной поверхностью 6.4 m2/g |
S 98 Synthesis of aluminum nitride nanolayers / L. A. Akashev, N. A. Popov , V. A. Kochedykov, V. G. Shevchenko> // Technical Physics Letters. - 2013. - Vol. 39, № 2. - С. 154-156 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): НИТРИД АЛЮМИНИЯ -- НАНОСЛОИ |