Поисковый запрос: (<.>K=ВОЛЬФРАМ<.>) |
Общее количество найденных документов : 37
Показаны документы с 1 по 10 |
|
1.
| Lin Y.-F. Electrodeposition of Zinc from a Mixture of Zinc Chloride and Neutral Aluminum Chloride-1-Methyl-3-ethylimidazolium Chloride molten salt/Y. -F. Lin, I. -W. Sun // Journal of the Electrochemical Society, 1999. т.V. 146,N N 3.-С.1054-1059
|
2.
| Тищенко А. А. Электрохимическое осаждение покрытий карбида вольфрама из галогенидных расплавов/А. А. Тищенко, В. В. Малышев, В. И. Шаповал // Журнал прикладной химии, 1999. т.Т. 72,N N 11.-С.1812-1815
|
3.
| Кольцова Т. Н. Система CuO-WO3/Т. Н. Кольцова, Г. Д. Нипан // Неорганические материалы, 1999. т.Т. 35,N N 4.-С.471-472
|
4.
| Электрохимическое поведение галогенидно-оксидных криолит-молибден(вольфрам)содержащих расплавов и электроосаждение из них молибденовых (вольфрамовых) покрытий/В. В. Малышев [и др.] // Расплавы, 2000,N N 1.-С.62-68
|
5.
| Взаимодействие вольфрама с расплавленными смесями NaOH-NaNO3/Б. Ф. Дмитрук [и др.] // Украинский химический журнал, 1999. т.Т. 65,N N 3-4.-С.12-18
|
6.
| Физико-химические свойства порошков карбида вольфрама, синтезированных из ионных расплавов/В. И. Шаповал [и др.] // Неорганические материалы, 2000. т.Т. 36,N N 10.-С.1213-1217: табл.
|
7.
| Теоретические основы и практическая реализация технологии высокотемпературного электрохимического синтеза карбидов вольфрама в ионных расплавах/И. А. Новоселова [и др.] // Теоретические основы химической технологии, 2001. т.Т. 35,N N 2.-С.185-198: ил.
|
8.
| Электрометаллургия вольфрама в расплавах/В. В. Малышев [и др.] // Известия высших учебных заведений. Цветная металлургия, 2000,N N 4.-С.13-25: ил.
|
9.
| Теоретические основы технологии гальванической обработки диэлектриков и полупроводников в ионных расплавах/В. В. Малышев [и др.] // Теоретические основы химической технологии, 2000. т.Т. 34,N N 4.-С.435-448: ил.
|
10.
| Электрохимическое поведение вольфрамат-карбонатных расплавов и высокотемпературный электрохимический синтез дисперсных порошков карбида вольфрама/В. И. Шаповал [и др.] // Журнал прикладной химии, 2000. т.Т. 73,N N 4.-С.567-572: ил.
|
|
|