Поисковый запрос: (<.>K=ВРЕМЯ<.>) |
Общее количество найденных документов : 10
Показаны документы с 1 по 10 |
1.
| Электродные процессы на границе стеклоуглерод/расплав LICL-CUCL-CUCL2 /И. С. Проскурнев [и др.] // Расплавы, 2011. т.№ 5.-С.40-52.
|
2.
| Шардаков Н. Т. Скорость роста, время жизни и максимальный диаметр пузырьков в пленке силикатного расплава/Н. Т. Шардаков, В. Я. Кудяков, В. Б. Васнецова // Физика и химия стекла, 2000. т.Т. 26,N N 6.-С.870-876: ил.
|
3.
| Шаманова Н. Д. Поверхность хромистых и хромоникелевых сталей после взаимодействия с расплавом хлоридов кальция и натрия/Н. Д. Шаманова, Н. О. Есина // Защита металлов, 1999. т.Т. 35,N N 1.-С.49-52
|
4.
| Управление концентрацией глинозема в электролите при производстве алюминия/В. А. Ершов [и др.] // Металлург, 2011. т.№ 11.-С.96-101.
|
5.
| Салтыкова Н. А. Изучение зародышеобразования кристаллов золота при электролизе хлоридных расплавов/Н. А. Салтыкова, О. Л. Семерикова, Л. Т. Косихин // Электрохимия, 2001. т.Т. 37,N N 10.-С.1198-1204: ил.
|
6.
| Кириллов С. А. Динамический критерий комплексообразования и строение расплавленных галогенидов. Ксорокалетию автокомплексной модели строения расплавов/С. А. Кириллов // Электрохимия, 2007. т.Т. 43,N № 8.-С.949-956
|
7.
| Исаев В. А. Нестационароне электрохимическое зародышеобразование в расплавах/В. А. Исаев, О. В. Гришенкова // Расплавы, 2009. т.№ 3.-С.45-49
|
8.
| Изучение взаимодействия сплава ХН80МТЮ с солевым расплавом LiF-BeF2-ZrF4, содержащим UF4 и PuF3/А. В. Панов [и др.] // Радиохимия, 2000. т.Т. 42,N N 5.-С.439-443: ил.
|
9.
| Зарубицкий О. Г. Нетривиальные приемы электролиза ионных расплавов/О. Г. Зарубицкий // Украинский химический журнал, 2000. т.Т. 66,N N 5.-С.5-13: ил.
|
10.
| Закирьянова И. Д. Корреляция между динамикой гидроксид-иона и свойствами переноса гидроксидно-хлоридных расплавов по данным кр-спектроскопии/И. Д. Закирьянова // Журнал прикладной спектроскопии, 2014. т.Т. 81,N № 2.-С.305-308.
|
|