Поисковый запрос: (<.>K=ПЛЕНКИ<.>) |
Общее количество найденных документов : 24
Показаны документы с 1 по 10 |
|
1.
| Matsuda T. Осцилляционноек поведение в реакции электрохимического осаждения тонких пленок поликристалличекого кремния путем восстановления четыреххлористого кремния в расплавленном солевом электролите/T. Matsuda, Ide K. Nakamura S. // Chem. Lett, 1996. т.7, 569-570
|
2.
| Andriiko A.A. Solid film at the anode influences the process of polyvalent metal electrorefining: theoretical bifurcation analysis of the problem/A. A. Andriiko, Mon'ko A. P. Panov E.V. // J. Solid State Electrochem., 1998. т.2, 3, 198-203
|
3.
| Механизм образования тонких оксидных покрытий и нанопорошков при анодном оксидировании циркония в расплавленных солях/Л. А. Елшина [и др.] // Защита металлов, 2008. т.Т. 44,N № 3.-С.276-282
|
4.
| Новоселова И.А. Электрохимический эпитаксиальный рост алмазов из ионных расплавов/И. А. Новоселова, Зауличный Я. В. Малышев В.В. // Тонк. пленки в электрон.: Матер. 6 Междунар. симп., Херсон, 25-29 сент., 1995. Т.2, 1995. т.131-132
|
5.
| Zhang Y.S. Обобщение исследований по высокотемпературной солевой коррозии сплавов Fe в средах O2/SO2/SO3 при наличии солевой пленки сульфата натрия/Y. S. Zhang, W. T. Wu // J. Phys. Ser.4, 1993.-С.3, С9, 319-326
|
6.
| Новоселова И.А. Электрохимический эпитаксиальный рост алмазов из ионных расплавов/И. А. Новоселова, Зауличный Я. В. Малышев В.В. // Тонк. пленки в электрон.: Матер. 6 Междунар. симп., Херсон, 25-29 сент., 1995. Т.2, 1995. т.131-132
|
7.
| Growth of platelet-structured CuAlO2 thin film on CuAl alloy by molten salt electrolysis method/Haiyang Ding, Shigang Lu, Juanyu Yang, Surong Kan, Xiangjun Zhang // Materials Letters, 2012. т.Vol. 78.-С.95-98.
|
8.
| Исследование коррозионно-электрохимических свойств сформированных в хлоридно-нитратном расплаве анодных оксидных пленок на алюминии в 0.5 М водном растворе NaCl/Л. А. Елшина, В. Б. Малков, В. Я. Кудяков, С. В. Гнеденков, С. Л. Синебрюхов, В. С. Егоркин, Д. В. Машталяр // Расплавы, 2013. т.№ 5.-С.9-24.
|
9.
| Factors Leading to the Formation of a Resistive Thin Film at the Bottom of Aluminum Electrolysis Cells/Marc-André Coulombe, Gervais Soucy, Loig Rivoaland, Lynne Davies // Metallurgical and Materials Transactions B, 2016. т.Vol. 47,N № 2.-С.1280-1295
|
10.
| Ruthenium electrodeposition on silicon from a room-temperature ionic liquid /Ofer Raz [и др.] // Electrochimica Acta , 2009. т.Vol. 54,N № 25.-С.6042-6045
|
|
|