Поисковый запрос: (<.>K=ПЛЕНКИ<.>) |
Общее количество найденных документов : 24
Показаны документы с 1 по 20 |
|
1.
| Шардаков Н. Т. Скорость роста, время жизни и максимальный диаметр пузырьков в пленке силикатного расплава/Н. Т. Шардаков, В. Я. Кудяков, В. Б. Васнецова // Физика и химия стекла, 2000. т.Т. 26,N N 6.-С.870-876: ил.
|
2.
| Салтыкова Н. А. Изучение зародышеобразования кристаллов золота при электролизе хлоридных расплавов/Н. А. Салтыкова, О. Л. Семерикова, Л. Т. Косихин // Электрохимия, 2001. т.Т. 37,N N 10.-С.1198-1204: ил.
|
3.
| Analysis of tungsten film electrodeposited from a ZnCl2-NaCl-KCl melt/K. Nitta, S. Inazawa [и др.] // Electrochimica Acta , 2007. т.Vol. 53,N № 1.-С.20-23
|
4.
| Electrodeposition of metallic tungsten films in ZnCl2-NaCl-KCl-KF-WO3 melt at 250 C/H. Nakajima, T. Nohira [и др.] // Electrochimica Acta , 2007. т.Vol. 53,N № 1.-С.24-27
|
5.
| Hachiya K. Optical properties of thin-film magnesium silicide prepared by electrochemical process /K. Hachiya // Electrochimica Acta , 2007. т.Vol. 53,N № 1.-С.71-78
|
6.
| Morphologic and crystallographic studies on electrochemically formed chomium nitride films/K. Amezawa, T. Goto [и др.] // Electrochimica Acta , 2007. т.Vol. 53,N № 1.-С.122-126
|
7.
| Production of fluorine with pulsed currents/D. Devilliers [et al.] // J. Appl. Electrochem, 1992. т.V. 22,N N 8.-С.765-769
|
8.
| Tada Рост пассивной оксидной пленки и питтинговая коррозия никеля в эвтектическом расплаве KCl-LiCl, содержащем оксидный ион/Masayuki. Tada, Yasuhiko. Ito // Abstr, 7th Int. Symp. Passiv. "Passiv. Metals and Semicond.", Clausthal, 1994, 21-26 Aug. -[Clausthal], 1994. т.149
|
9.
| Tada M. Рост пассивной пленки и питтинговая коррозия никеля в эвтектическом расплаве LiCl-KCl, содержащем оксид-ион [2-]/M. Tada, Y. Ito // Passiv. Metals and Semicond.: Proc. 7th Int. Symp. Passiv., Clausthal, Aug. 21-26, 1994, 1994. т.917-924
|
10.
| Fuller J. In Situ Optical Microscopy Investigations of Lithium and Sodium Film Formation in Buffered Room Temperature Molten Salts/J. Fuller, Osteryoung R. A. Carlin R.T. // J. Electrochem. Soc, 1996. т.143, 7, L145-L147
|
11.
| Борисов Ю.С. Изучение процессов формирования тонких слоев износостойких карбидных фаз на поверхности железоуглеродистых сплавов/Ю. С. Борисов, Борисова А. Л. Шавловский Е.Н. // Тонк. пленки в электрон.: Матер. 6 Междунар. симп., Херсон, 25-29 сент., 1995. Т.1, 1995. т.142-144
|
12.
| Новоселова И.А. Электрохимическое осаждение карбидных пленок и эпитаксиальный рост углерода на алмазах из ионных расплавов/И. А. Новоселова, Зауличный Я. В. Малышев В.В. // Тонк. пленки в электрон.: Матер. 6 Междунар. симп., Херсон, 25-29 сент., 1995. Т.2, 1995. т.133-135
|
13.
| Новоселова И.А. Электрохимический эпитаксиальный рост алмазов из ионных расплавов/И. А. Новоселова, Зауличный Я. В. Малышев В.В. // Тонк. пленки в электрон.: Матер. 6 Междунар. симп., Херсон, 25-29 сент., 1995. Т.2, 1995. т.131-132
|
14.
| Zhang Y.S. Обобщение исследований по высокотемпературной солевой коррозии сплавов Fe в средах O2/SO2/SO3 при наличии солевой пленки сульфата натрия/Y. S. Zhang, W. T. Wu // J. Phys. Ser.4, 1993.-С.3, С9, 319-326
|
15.
| Новоселова И.А. Электрохимический эпитаксиальный рост алмазов из ионных расплавов/И. А. Новоселова, Зауличный Я. В. Малышев В.В. // Тонк. пленки в электрон.: Матер. 6 Междунар. симп., Херсон, 25-29 сент., 1995. Т.2, 1995. т.131-132
|
16.
| Matsuda T. Осцилляционноек поведение в реакции электрохимического осаждения тонких пленок поликристалличекого кремния путем восстановления четыреххлористого кремния в расплавленном солевом электролите/T. Matsuda, Ide K. Nakamura S. // Chem. Lett, 1996. т.7, 569-570
|
17.
| Andriiko A.A. Solid film at the anode influences the process of polyvalent metal electrorefining: theoretical bifurcation analysis of the problem/A. A. Andriiko, Mon'ko A. P. Panov E.V. // J. Solid State Electrochem., 1998. т.2, 3, 198-203
|
18.
| Механизм образования тонких оксидных покрытий и нанопорошков при анодном оксидировании циркония в расплавленных солях/Л. А. Елшина [и др.] // Защита металлов, 2008. т.Т. 44,N № 3.-С.276-282
|
19.
| Ruthenium electrodeposition on silicon from a room-temperature ionic liquid /Ofer Raz [и др.] // Electrochimica Acta , 2009. т.Vol. 54,N № 25.-С.6042-6045
|
20.
| Влияние плазменной обработки на коррозионно-электрохимическое взаимодействие титана с хлоридно-нитратным расплавом/Л. А. Елшина [и др.] // Физикохимия поверхности и защита материалов, 2010. т.№ 5.-С.515-520
|
|
|