Поисковый запрос: (<.>K=ПОКРЫТИЕ<.>) |
Общее количество найденных документов : 44
Показаны документы с 1 по 20 |
|
1.
| Effect of direct current density on microstructure of tungsten coating electroplated from Na2WO4-WO3-NaPO3 system/Fan Jiang, Yingchun Zhang, Ningbo Sun, Zhi’ang Liu // Applied Surface Science, 2014. т.Vol. 317.-С.867-874
|
2.
| Electrochemical Study of Tantalum Plating in LiF-NaF-CaF2 Melt/M. Mehmood [et al.] // Химия в интересах устойчивого развития, 2004. т.Т. 12,N N 1.-С.101 - 106.: ил.
|
3.
| Electrodeposition of aluminum from molten AlCl3-NaCl-KCl mixture /M. Jafarian [et al.] // Journal of Applied Electrochemistry, 2006. т.V. 36,N N. 10.-С.1169 - 1173
|
4.
| Electrodeposition of Bright Al Coatings from 1-Butyl-3-Methylimidazolium Chloroaluminate Ionic Liquids with Specific Additives/Qian Wang // Journal of the Electrochemical Society, 2015. т.Vol. 162,N № 8.-С.В320-В324
|
5.
| Huang Yongzhong. Покрытие катодов электролизеров диборидом титана/Yongzhong. Huang, Wang Huazhang. Liu Yexiang. // Zhongguo youse jinshu xuebao = Chin. J. Nonfferrous Metals, 1996. т.6, 2, 19-22
|
6.
| Kartal Sireli G. An investigation of ruthenium coating from LiCl–KCl eutectic melt/G. Kartal Sireli // Applied Surface Science, 2014. т.Vol. 317.-С.294-301
|
7.
| Laminar iridium coating produced by pulse current electrodeposition from chloride molten salt /Li’an Zhu, Shuxin Bai, Hong Zhang, Yicong Ye // Applied Surface Science, 2013. т.Vol. 282.-С.820-825.
|
8.
| Lantelme F. Использование нестационарных электрохимических методов для изучения электроосаждения ниобия из расплава NaCl-KCl/F. Lantelme, Y. Bergorete // J. Electrochem. Soc, 1994. т.141, 12, 3306-3311
|
9.
| Liu X. Low-Temperature Preparation of Titanium Carbide Coatings on Graphite Flakes from Molten Salts /Liu X., Zhang S. // Journal of the American Ceramic Society, 2008. т.Vol. 91,N № 2.-С.667-670
|
10.
| Massot L. Preparation of tantalum carbide films by reaction of electrolytic carbon coating with the tantalum substrate /L. Massot, P. Chamelot, P. Taxil // Journal of Alloys and Compounds, 2006. т.V. 424,N N. 1- 2.-С.199 - 203
|
11.
| Morphology and Mechanical Properties of TiB2 Coatings Deposited from Chloride-Fluoride Melts by Pulse Electroplating/N. Rybakova [и др.] // ournal of The Electrochemical Society, 2009. т.Vol. 156,N № 4.-С.D131-D137
|
12.
| Nickel-plating for active metal dissolution resistance in molten fluoride salts /Luke Olson [и др.] // Journal of Nuclear Materials , 2011. т.Vol. 411,N № 1-3.-С.51-59.
|
13.
| Po-Yu Chen The electrodeposition of Mn and Zn-Mn alloys froom the room-temperature tri-1-butylmethymmonium bis (( trifluoromethane) sulfony1) imide ionic liduid/Po-Yu Chen, Charles L. Hussey // Electrochimica Acta , 2007. т.Vol. 52,N № 5.-С.1857-1864
|
14.
| SiC coating: An alternative for the protection of nuclear graphite from liquid fluoride salt/Xiujie He [et al.] // Journal of Nuclear Materials, 2014. т.Vol. 448,N № 1-3.-С.. 1-3.
|
15.
| Yang Zixia. Бороалитирование в соляной ванне и его применение/Zixia. Yang, Zhongxina. Dai // Jinshu rechuli = Heat Treat. Metals, 1995. т.№ 8.-С.16-18
|
16.
| Буряк Н. И. Электрохимическое покрытие титаном в карбамид-хлоридном расплаве/Н. И. Буряк // Украинский химический журнал, 2015. т.Т. 81,N № 11-12.-С.74-76
|
17.
| Исследование закономерностей переноса серебра на металлические подложки в расплаве Ag-K-KCl/В. М. Ивенко, В. Ю. Шишкин, К. Р. Каримов, А. А. Панкратов // Расплавы, 2013. т.№ 2.-С.69-76.
|
18.
| Колосов В. Н. Анизотропия критического тока сверхпроводящих покрытий на основе Nb3Sn, полученных совместным электрохимическим осаждением металлов??/В. Н. Колосов, А. А. Шевырев // Неорганические материалы, 2010. т.Т. 46,N № 2.-С.183-189
|
19.
| Колосов В. Н. Структура и свойства покрытий на основе Nb3Sn, полученных совместным электрохимическим осаждением металлов при нестационарных режимах тока/В. Н. Колосов, А. А. Шевырев // Неорганические материалы, 2009. т.Т. 45,N № 9.-С.1079-1085
|
20.
| Комплексообразование ионов родия в расплаве на основе карбамида в электрохимических процессах/А. В. Савчук [и др.] // Украинский химический журнал, 2009. т.Т. 75,N № 5 .-С.35-38
|
|
|