Поисковый запрос: (<.>K=ПОКРЫТИЕ<.>) |
Общее количество найденных документов : 44
Показаны документы с 1 по 20 |
|
1.
| Lantelme F. Использование нестационарных электрохимических методов для изучения электроосаждения ниобия из расплава NaCl-KCl/F. Lantelme, Y. Bergorete // J. Electrochem. Soc, 1994. т.141, 12, 3306-3311
|
2.
| Yang Zixia. Бороалитирование в соляной ванне и его применение/Zixia. Yang, Zhongxina. Dai // Jinshu rechuli = Heat Treat. Metals, 1995. т.№ 8.-С.16-18
|
3.
| Huang Yongzhong. Покрытие катодов электролизеров диборидом титана/Yongzhong. Huang, Wang Huazhang. Liu Yexiang. // Zhongguo youse jinshu xuebao = Chin. J. Nonfferrous Metals, 1996. т.6, 2, 19-22
|
4.
| Электрохимическое осаждение и свойства вольфрамовых покрытий из вольфраматно-боратных расплавов/В. В. Малышев, Н. Н. Ускова, С. Ю. Сарычев, В. И. Шаповал // Защита металлов, 1996. т.Т. 32,N № 6.-С.653-657
|
5.
| Кудяков В.Я. Бестоковая кристаллизация серебра на титане в солевых расплавах/В. Я. Кудяков, Шардаков Н. Т. Шардакова Г.Н. // Расплавы, 1997. т.4, 78-83
|
6.
| Тищенко А. А. Электрохимическое осаждение покрытий карбида вольфрама из галогенидных расплавов/А. А. Тищенко, В. В. Малышев, В. И. Шаповал // Журнал прикладной химии, 1999. т.Т. 72,N N 11.-С.1812-1815
|
7.
| Electrochemical Study of Tantalum Plating in LiF-NaF-CaF2 Melt/M. Mehmood [et al.] // Химия в интересах устойчивого развития, 2004. т.Т. 12,N N 1.-С.101 - 106.: ил.
|
8.
| Massot L. Preparation of tantalum carbide films by reaction of electrolytic carbon coating with the tantalum substrate /L. Massot, P. Chamelot, P. Taxil // Journal of Alloys and Compounds, 2006. т.V. 424,N N. 1- 2.-С.199 - 203
|
9.
| Получение молибденовых покрытий на железе в ионно-электронных расплавах /А. И. Анфиногенов [и др.] // Расплавы, 2006,N N 4.-С.65 - 72.: ил.
|
10.
| Electrodeposition of aluminum from molten AlCl3-NaCl-KCl mixture /M. Jafarian [et al.] // Journal of Applied Electrochemistry, 2006. т.V. 36,N N. 10.-С.1169 - 1173
|
11.
| Малышев В. В. Физико-химические свойства гальванопокрытий на основе карбида вольфрама и диборида циркония на сталях/В. В. Малышев, А. И. Габ // Защита металлов, 2007. т.Т. 43,N № 1.-С.50-54
|
12.
| Po-Yu Chen The electrodeposition of Mn and Zn-Mn alloys froom the room-temperature tri-1-butylmethymmonium bis (( trifluoromethane) sulfony1) imide ionic liduid/Po-Yu Chen, Charles L. Hussey // Electrochimica Acta , 2007. т.Vol. 52,N № 5.-С.1857-1864
|
13.
| Малышев В. В. Электроосаждение и свойства гальванических покрытий Mo(W)-Ni(Co)/В. В. Малышев, В. И. Пожуев // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования , 2007. т.№ 2.-С.94-100
|
14.
| Малышев В. В. Теоретические основы и практическая реализация электроосаждения молибдена в ионных расплавах/В. В. Малышев // Теоретические основы химической технологии, 2007. т.Т. 41,N № 3.-С.302-318
|
15.
| Павловский В. А. Особенности электроосаждения танталовых покрытий во фторидном расплаве/В. А. Павловский // Защита металлов, 2007. т.Т. 43,N № 3.-С.303-306
|
16.
| Кузнецов С. А. Металлизация стеклокерамических оболочек и оксидных материалов в солевых расплавах/С. А. Кузнецов, В. Т. Калинников // Физика и химия стекла, 2008. т.Т. 34,N № 5.-С.748-758
|
17.
| Электрохимическое поведение серебра в карбамид-хлоридном расплаве/С. А. Кочетова [и др.] // Украинский химический журнал, 2008. т.Т. 74,N № 11.-С.41-43
|
18.
| Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбид-NH4Cl/А. В. Савчук [и др.] // Украинский химический журнал, 2008. т.Т. 74,N № 3-4.-С.31-33
|
19.
| Liu X. Low-Temperature Preparation of Titanium Carbide Coatings on Graphite Flakes from Molten Salts /Liu X., Zhang S. // Journal of the American Ceramic Society, 2008. т.Vol. 91,N № 2.-С.667-670
|
20.
| Шевырев А. А. Остаточные напряжения в композиционных электролитических покрытиях на основе Nb3Sn/А. А. Шевырев, В. Н. Колосов // Неорганические материалы, 2009. т.Т. 45,N № 10.-С.1199-1203
|
|
|