Поисковый запрос: (<.>K=ПУЗЫРЬКИ<.>) |
Общее количество найденных документов : 9
Показаны документы с 1 по 9 |
1.
| A numerical assessment of bubble-induced electric resistance in aluminium electrolytic cells/Kaiyu Zhang, Yuqing Feng, Peter J. Witt, William Yang, Mark Cooksey, Zhaowen Wang, M. Phil Schwarz // Journal of Applied Electrochemistry, 2014. т.Vol. 44,N № 10.-С.. 1081-1092.
|
2.
| Increasing Potlife of Hall–Heroult Reduction Cells Through Multivariate On-Line Monitoring of Preheating, Start-Up, and Early Operation /Jayson Tessier [и др.] // Metallurgical and Materials Transactions B, 2010. т.Vol. 41,N № 3.-С.612-624.
|
3.
| Perron A. L. Mathematical model to evaluate the ohmic resistance caused by the presence of a large number of bubbles in Hall-Heroult cells/A. L. Perron, L. I. Kiss, S. Poncsak // Journal of Applied Electrochemistry, 2007. т.Vol. 37,N № 3.-С.303-310
|
4.
| Zoric J. On gas bubbles in industrial aluminium cells with prebaked anodes and their influence on the current distribution/J. Zoric, A. Solheim // Journal of Applied Electrochemistry, 2000. т.V. 30,N N 7.-С.787-794
|
5.
| Study on the Inter-electrode Process of Aluminum Electrolysis/Youjian Yang, Bingliang Gao, Zhaowen Wang, Zhongning Shi, Xianwei Hu // Metallurgical and Materials Transactions B, 2016. т.Vol. 47,N № 1.-С.621-629
|
6.
| Kristian Etienne Einarsrud The Effect of Detaching Bubbles on Aluminum-Cryolite Interfaces: An Experimental and Numerical Investigation /Kristian Etienne Einarsrud // Metallurgical and Materials Transactions B, 2010. т.Vol. 41,N № 3.-С.560-573.
|
7.
| Плотность и поверхностное натяжение расплавов Bi2O3-V2O5, Bi2O3-TiO2 и Bi2O3-B2O3/С. А. Истомин [и др.] // Расплавы, 2001,N N 2.-С.3-7: ил.
|
8.
| Шардаков Н. Т. Скорость роста, время жизни и максимальный диаметр пузырьков в пленке силикатного расплава/Н. Т. Шардаков, В. Я. Кудяков, В. Б. Васнецова // Физика и химия стекла, 2000. т.Т. 26,N N 6.-С.870-876: ил.
|
9.
| Якимович К. А. Экспериментальное исследование плотности и поверхностного натяжения расплавленного лития при температурах до 1300 K/К. А. Якимович, А. Г. Мозговой // Теплофизика высоких температур, 2000. т.Т. 38,N N 4.-С.680-682: ил.
|
|