Поисковый запрос: (<.>K=LIF<.>) |
Общее количество найденных документов : 138
Показаны документы с 1 по 10 |
|
1.
| Тищенко А. А. Электрохимическое осаждение покрытий карбида вольфрама из галогенидных расплавов/А. А. Тищенко, В. В. Малышев, В. И. Шаповал // Журнал прикладной химии, 1999. т.Т. 72,N N 11.-С.1812-1815
|
2.
| Полякова Л.П. Электрохимическое восстановление тантала в расплавленных фторидах/Л. П. Полякова, Поляков Е. Г. Буктова Г.А. // Электрохимия, 1993. т.29, 11, 1333-1337
|
3.
| Электропроводность расплавов фторида лития с бромидом калия в области расслаивания/Л. М. Бабушкина [и др.] // Расплавы, 2008. т.№ 3.-С.35-39
|
4.
| Катышев С. Ф. Электропроводность расплавов системы LiF-KF-ZrF4/С. Ф. Катышев, Л. М. Теслюк, Н. В. Ельцова // Расплавы, 2009. т.№ 5.-С.86-92
|
5.
| Электропроводность низкотемпературного расплавленного электролита KF-AlF3 с добавками LiF и Al2O3/А. П. Аписаров, В. А. Крюковский [и др.] // Электрохимия, 2007. т.Т. 43,N № 8.-С.916-920
|
6.
| Электропроводность криолит-глиноземного расплава с добавками LiF и KF/А. П. Аписаров [и др.] // Расплавы, 2006,N N 4.-С.45 - 50.: ил.
|
7.
| Электронные спектры поглощения растворов GaCl3 и Ga2O в хлоридно-фторидных расплавах/А. А. Хохряков [и др.] // Радиохимия, 2004. т.Т. 47,N N 5.-С.434-436: ил.
|
8.
| Электрогидродинамическая эмиссия ионов обоих знаков из расплавов галогенидов щелочных металлов/Н. В. Алякринская [et al.] // Журнал технической физики, 1992. т.Т. 62,N N 8.-С.164-171
|
9.
| Прутцков Д.В. Электровосстановление магния из фторидно-оксидного расплава/Д. В. Прутцков, Н. П. Криворучко // Укр. електрохим. з'изд, 1: Мижнар. симп. з теоретич. та експерим. електрохимии, присвячений 65-риччю вид дня народження акад. НАН Украини О.В.Городиського, Киив (Пуща-Водиця), 15-17 травня, 1995, 1995. т.172
|
10.
| Hasz W.C. Электрическая релаксация в стекле и расплаве CdF2-LiF-AlF3-PbF2/W. C. Hasz, Tick P. A. Moynihan C.T. // J. Non-Cryst. Solids, 1994. т.172-174,N Pt 2.-С.1363-1372
|
|
|