S 43 Secondary processes during tantalum electrodeposition in molten salts [] / L. P. Polyakova [et al.] // J. Appl. Electrochem. - 1992. - V. 22, N 7. - С. 628-637 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): РАСПЛАВЫ -- ВОЛЬТАМПЕРОМЕТРИЧЕСКИЙ МЕТОД -- АНОДНЫЕ ПРОЦЕССЫ -- ЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ -- KCL -- CsCl -- NaF -- NaCl -- K2TaF7 |