Ш 25 Шардаков, Н. Т. Скорость роста, время жизни и максимальный диаметр пузырьков в пленке силикатного расплава [] / Н. Т. Шардаков, В. Я. Кудяков, В. Б. Васнецова // Физика и химия стекла. - 2000. - Т. 26, N 6. - 870-876: ил. - Библиогр.: с. 876 (7 назв.) . - ISSN 0132-6651 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): СКОРОСТЬ РОСТА -- ДИАМЕТР ПУЗЫРЬКОВ -- ПЛЕНКИ СИЛИКАТНОГО РАСПЛАВА -- СИЛИКАТНЫЕ РАСПЛАВЫ -- РАСПЛАВЫ СИЛИКАТНЫЕ -- СИЛИКАТЫ РАСПЛАВЛЕННЫЕ -- РАСПЛАВЛЕННЫЕ СИЛИКАТЫ -- АТМОСФЕРА АРГОНА -- ПУЗЫРЬКИ ГАЗОВЫЕ -- ГАЗОВЫЕ ПУЗЫРЬКИ -- ВРЕМЯ ЖИЗНИ ПУЗЫРЬКОВ -- ДАВЛЕНИЕ ЛАПЛАСА -- ЛАПЛАСА ДАВЛЕНИЕ -- ХИМИЯ Аннотация: С помощью видеокомплекса, включающего высокотемпературный микроскоп, видеокамеру, плату "ввода-вывода", компьютер IBM-486, измерены скорость роста, время жизни, максимальный диаметр пузырьков в пленке силикатного расплава в атмосфере аргона при 770 C |
С 16 Салтыкова, Н. А. Изучение зародышеобразования кристаллов золота при электролизе хлоридных расплавов [] / Н. А. Салтыкова, О. Л. Семерикова, Л. Т. Косихин // Электрохимия. - 2001. - Т. 37, N 10. - 1198-1204: ил. - Библиогр.: с. 1204 (12 назв.) . - ISSN 0424-8570 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ХИМИЯ -- ЗАРОДЫШЕОБРАЗОВАНИЕ КРИСТАЛЛОВ -- КРИСТАЛЛЫ ЗОЛОТА -- ЭЛЕКТРОЛИЗ РАСПЛАВОВ -- ХЛОРИДНЫЕ РАСПЛАВЫ -- РАСПЛАВЫ ХЛОРИДНЫЕ -- ХЛОРИДЫ РАСПЛАВЛЕННЫЕ -- РАСПЛАВЛЕННЫЕ ХЛОРИДЫ -- ЗОЛОТО -- Au -- ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ -- ГАЛЬВАНОСТАТИЧЕСКИЙ МЕТОД -- МЕТОД ГАЛЬВАНОСТАТИЧЕСКИЙ -- ЭВТЕКТИКА РАСПЛАВЛЕННАЯ -- РАСПЛАВЛЕННАЯ ЭВТЕКТИКА -- КАТОДЫ СТЕКЛОУГЛЕРОДНЫЕ -- СТЕКЛОУГЛЕРОДНЫЕ КАТОДЫ -- ТЕМПЕРАТУРНЫЕ ЗАВИСИМОСТИ -- ЗАВИСИМОСТИ ТЕМПЕРАТУРНЫЕ -- NaCl-KCl-CsCl -- NaCl -- KCl -- CsCl -- Na -- K -- Cs -- НАТРИЙ -- КАЛИЙ -- ЦЕЗИЙ Аннотация: Изучено влияние условий электроосаждения на зарождение кристаллов золота на стеклоуглеродном катоде в расплаве NaCl-KCl-CsCl при 500-700 C гальваностатическим методом. Величина максимального перенапряжения зарождения кристаллов золота может достигать 550 мВ. При низких плотностях тока обнаружено активирование поверхности стеклоуглерода вследствие самопроизвольного химического осаждения кристаллов золота. При введении в расплав повышенного, по сравнению с равновесным, содержания хлора на кривой перенапряжение-время наблюдали дополнительную волну, предшествующую пику зарождения. Появление этой волны, по-видимому, связано с перезарядом ионов Au(3) до Au(1). При этом поверхность катода очищается от оксидной пленки, облегчая образование зародышей. На модельном электроде с утечкой тока экспериментально обнаружено уменьшение максимального перенапряжения, не связанное с активированием катода. Оценены токи обмена разряда - ионизации золота на растущих зародышах |
A 53 Analysis of tungsten film electrodeposited from a ZnCl2-NaCl-KCl melt [Текст] / K. Nitta, S. Inazawa [и др.] // Electrochimica Acta . - 2007. - Vol. 53, № 1. - С. 20-23 : рис. - Библиогр.: с. 23 (9 ref.) . - ISSN 0013-4686 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ХЛОРИДЫ -- ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ -- ПЛЕНКИ -- Zn -- W |
E 43 Electrodeposition of metallic tungsten films in ZnCl2-NaCl-KCl-KF-WO3 melt at 250 C [Текст] / H. Nakajima, T. Nohira [и др.] // Electrochimica Acta . - 2007. - Vol. 53, № 1. - С. 24-27 : фото. - Библиогр.: с. 27 (14 ref.) . - ISSN 0013-4686 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ХЛОРИДЫ -- ФТОРИДЫ -- ОКСИДЫ -- ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ -- ПЛЕНКИ -- ВОЛЬТАМПЕРОМЕТРИЯ -- Zn -- W |
H 12 Hachiya, K. Optical properties of thin-film magnesium silicide prepared by electrochemical process [Текст] / K. Hachiya // Electrochimica Acta . - 2007. - Vol. 53, № 1. - С. 71-78 : граф. - Библиогр.: с. 49 (25 ref.) . - ISSN 0013-4686 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ХЛОРИДЫ -- Mg -- ЭЛЕКТРОЛИЗ -- ПЛЕНКИ -- Mg2Si |
M 85 Morphologic and crystallographic studies on electrochemically formed chomium nitride films [Текст] / K. Amezawa, T. Goto [и др.] // Electrochimica Acta . - 2007. - Vol. 53, № 1. - С. 122-126 : рис. - Библиогр.: с. 125-126 (14 ref.) . - ISSN 0013-4686 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): Li3N -- Cr -- N -- ХЛОРИДЫ -- ЭЛЕКТРОЛИЗ -- ПЛЕНКИ |
P 93 Production of fluorine with pulsed currents [] / D. Devilliers [et al.] // J. Appl. Electrochem. - 1992. - V. 22, N 8. - С. 765-769 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): РАСПЛАВЫ -- ЭЛЕКТРОЛИЗ -- ПЛЕНКИ -- Kf -- KHf -- F2 |
T 12 Tada Рост пассивной оксидной пленки и питтинговая коррозия никеля в эвтектическом расплаве KCl-LiCl, содержащем оксидный ион [] / Masayuki. Tada, Yasuhiko. Ito // Abstr, 7th Int. Symp. Passiv. "Passiv. Metals and Semicond.", Clausthal, 1994, 21-26 Aug. - 1994. - 149. - РЖ Коррозия и защита от коррозии. - 1995: 2.66.124 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): LICL, KCL, ОКСИДЫ, КОРРОЗИЯ, NI |
T 12 Tada, M. Рост пассивной пленки и питтинговая коррозия никеля в эвтектическом расплаве LiCl-KCl, содержащем оксид-ион [2-] [] / M. Tada, Y. Ito // Passiv. Metals and Semicond.: Proc. 7th Int. Symp. Passiv., Clausthal, Aug. 21-26, 1994. - 1994. - 917-924. - РЖ Коррозия и защита от коррозии. - 1995: 12.66.31 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): KCL, LICL, LI2O, NI, АНОДНАЯ ПОЛЯРИЗАЦИЯ, КОРРОЗИЯ |
F 96 Fuller, J. In Situ Optical Microscopy Investigations of Lithium and Sodium Film Formation in Buffered Room Temperature Molten Salts [] / J. Fuller, Osteryoung R. A. Carlin R.T. // J. Electrochem. Soc. - 1996. - 143, 7, L145-L147 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ОРГАНИЧЕСКИЕ РАСПЛАВЫ, ЛОРИДЫ, AL, NA, LI, КИНЕТИКА, ПЛЕНКИ |
Б 82 Борисов, Ю. С. Изучение процессов формирования тонких слоев износостойких карбидных фаз на поверхности железоуглеродистых сплавов [] / Ю. С. Борисов, Борисова А. Л. Шавловский Е.Н. // Тонк. пленки в электрон.: Матер. 6 Междунар. симп., Херсон, 25-29 сент., 1995. Т.1. - 1995. - 142-144. - РЖ Химия. - 1996: 11Е203 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): СОЛИ, V, CR, КАРБИДЫ, СПЛАВЫ, ПОКРЫТИЯ |
Н 76 Новоселова, И. А. Электрохимическое осаждение карбидных пленок и эпитаксиальный рост углерода на алмазах из ионных расплавов [] / И. А. Новоселова, Зауличный Я. В. Малышев В.В. // Тонк. пленки в электрон.: Матер. 6 Междунар. симп., Херсон, 25-29 сент., 1995. Т.2. - 1995. - 133-135. - РЖ Химия. - 1996: 24Б2469; РЖ Физика. - 1996: 11Е493 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): СОЛИ, ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ, C, ПОРОШКИ, ХЛОРИДЫ, КАРБИДЫ |
Н 76 Новоселова, И. А. Электрохимический эпитаксиальный рост алмазов из ионных расплавов [] / И. А. Новоселова, Зауличный Я. В. Малышев В.В. // Тонк. пленки в электрон.: Матер. 6 Междунар. симп., Херсон, 25-29 сент., 1995. Т.2. - 1995. - 131-132. - РЖ Химия. - 1996: 24Б2468 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): СОЛИ, ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ, АЛМАЗ |
Z 62 Zhang, Y. S. Обобщение исследований по высокотемпературной солевой коррозии сплавов Fe в средах O2/SO2/SO3 при наличии солевой пленки сульфата натрия [] / Y. S. Zhang, W. T. Wu // J. Phys. Ser.4. - 1993. - 3, С9, 319-326. - РЖ Коррозия и защита от коррозии. - 1996: 12.66.42 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): СУЛЬФАТЫ, СПЛАВЫ, FE, КОРРОЗИЯ |
Н 76 Новоселова, И. А. Электрохимический эпитаксиальный рост алмазов из ионных расплавов [] / И. А. Новоселова, Зауличный Я. В. Малышев В.В. // Тонк. пленки в электрон.: Матер. 6 Междунар. симп., Херсон, 25-29 сент., 1995. Т.2. - 1995. - 131-132. - РЖ Физика. - 1996: 10Е541 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): СОЛИ, ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКИЙ СИНТЕЗ, АЛМАЗ |
M 39 Matsuda, T. Осцилляционноек поведение в реакции электрохимического осаждения тонких пленок поликристалличекого кремния путем восстановления четыреххлористого кремния в расплавленном солевом электролите [] / T. Matsuda, Ide K. Nakamura S. // Chem. Lett. - 1996. - 7, 569-570. - РЖ Химия. - 1997: 8Б3251 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ХЛОРИДЫ, ФТОРИДЫ, SI, КИНЕТИКА, ПЛЕНКИ |
A 55 Andriiko, A. A. Solid film at the anode influences the process of polyvalent metal electrorefining: theoretical bifurcation analysis of the problem [] / A. A. Andriiko, Mon'ko A. P. Panov E.V. // J. Solid State Electrochem. - 1998. - 2, 3, 198-203 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): SI, NB, TA, ФТОРИДЫ, ХЛОРИДЫ, ЭЛЕКТРОРАФИНИРОВАНИЕ, АНОД, ПЛЕНКИ |
М 55 Механизм образования тонких оксидных покрытий и нанопорошков при анодном оксидировании циркония в расплавленных солях [Текст] / Л. А. Елшина [и др.] // Защита металлов. - 2008. - Т. 44, № 3. - С. 276-282 : рис. - Библиогр.: с. 282 (10 назв.) . - ISSN 0044-1856 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): НАНОПОРОШКИ -- ЦИРКОНИЙ -- ОКСИДЫ -- КОРРОЗИЯ Аннотация: Установлено, что при окислении циркония в расплавленных солях до 813-1013 К рост оксидных фаз происходит преимущественно в результате диффузии ионов кислорода через пленку оксида к границе раздела металл-оксид. Образующаяся в начальный период окисления циркония в хлоридно-нитратном расплаве оксидная пленка тормозит процесс, но не прерывает ионный обмен на границе металл-расплав.По мере формировния оксида и наступления стационарного режима коррозионного процесса, скорость окисления контролируется фиддузией ионов кислорода от поверхности пленки вглубь металла. Наряду с диффузией ионов О2-при температурах 813-1013 К в металле могут мигрировать и ионы циркония, усложняя интерпретацию процесса в целом. При окислении циркония отмечается образование разных по цвету оксидных пленок, которые обладают различными коррозионными и защитными свойствами, а также мелкодисперсного порошка диоксида циркония со средним размером частиц до 30 нм. |
R 96 Ruthenium electrodeposition on silicon from a room-temperature ionic liquid / Ofer Raz [и др.] // Electrochimica Acta . - 2009. - Vol. 54, № 25. - С. 6042-6045 : граф. - Библиогр. : p. 6045 (25 ref.) . - ISSN 0013-4686 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ПЛЕНКИ -- ОРГАНИЧЕСКИЙ РАСПЛАВ -- ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ -- Ru -- Ba |
В 58 Влияние плазменной обработки на коррозионно-электрохимическое взаимодействие титана с хлоридно-нитратным расплавом / Л. А. Елшина [и др.] // Физикохимия поверхности и защита материалов. - 2010. - № 5. - С. 515-520. - Библиогр.: с. 520 (14 назв.) . - ISSN 0044-1856 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ПОВЕДЕНИЕ ТИТАНА -- РАСПЛАВ ХЛОРИДНЫЙ -- ПЛЕНКИ ОКСИДНЫЕ Аннотация: Исследовано коррозионно-электрохимическое поведение титана в хлоридном расплаве, содержащем от 1 до 30 мас. % нитрата натрия при температурах 790–900 К под аргоном. Показано, что в зависимости от содержания нитрата натрия на поверхности титана могут образовываться оксидные слои различной текстуры, либо в объеме расплава формироваться нанопорошок диоксида титана. Обработка высокотемпературной водородной и гелиевой импульсной плазмой титана ВТ1 существенно меняет морфологию и защитные свойства получаемых оксидных пленок на титане.???? |