Т 47 Тищенко, А. А. Электрохимическое осаждение покрытий карбида вольфрама из галогенидных расплавов [] / А. А. Тищенко, В. В. Малышев, В. И. Шаповал // Журнал прикладной химии. - 1999. - Т. 72, N 11. - С. 1812-1815. - Библиогр.: 11 назв. . - ISSN 0044-4618 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ХИМИЯ -- NaCl-LiF-Na2WO3-Na2CO3 -- W2C -- NaCl -- LiF -- Na2WO3 -- Na2CO3 -- ОСАЖДЕНИЕ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОЕ -- ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ -- ПОКРЫТИЕ -- КАРБИД ВОЛЬФРАМА -- ВОЛЬФРАМ -- РАСПЛАВЫ ГАЛОГЕНИДНЫЕ -- ГАЛОГЕНИДНЫЕ РАСПЛАВЫ -- W -- ХЛОРИД НАТРИЯ -- НАТРИЙ -- Na -- ФТОРИД ЛИТИЯ -- ЛИТИЙ -- Li -- ВОЛЬФРАМАТ НАТРИЯ -- КАРБОНАТ НАТРИЯ -- ПОДЛОЖКИ МЕТАЛЛИЧЕСКИЕ -- МЕТАЛЛИЧЕСКИЕ ПОДЛОЖКИ Аннотация: Исследовано электрохимическое поведение расплавов NaCl-LiF-Na2WO3-Na2CO3. Изучены условия электрохимического осаждения покрытий карбида вольфрама на металлические подложки |
E 43 Electrochemical Study of Tantalum Plating in LiF-NaF-CaF2 Melt [Text] / M. Mehmood [et al.] // Химия в интересах устойчивого развития. - 2004. - Т. 12, N 1. - 101 - 106.: ил. - Bibligr.: p. 106 ( 23 ref.) . - ISSN 0869-8538 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ФТОРИДЫ -- ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ -- ХРОНОПОТЕНЦИОМЕТРИЯ -- ПОКРЫТИЕ -- ВОЛЬТАМПЕРОМЕТРИЯ |
П 53 Получение молибденовых покрытий на железе в ионно-электронных расплавах [] / А. И. Анфиногенов [и др.] // Расплавы. - 2006. - N 4. - 65 - 72.: ил. - Билиогр.: с. 71 - 72 (10 назв.) . - ISSN 0235-0106 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ХЛОРИДЫ -- ФТОРИДЫ -- ДИФФУЗНОЕ НАСЫЩЕНИЕ -- ПОКРЫТИЕ -- Li -- Ba -- a -- Mo -- FeMo |
M 38 Massot, L. Preparation of tantalum carbide films by reaction of electrolytic carbon coating with the tantalum substrate [Text] / L. Massot, P. Chamelot, P. Taxil // Journal of Alloys and Compounds. - 2006. - V. 424, N. 1- 2. - P199 - 203. - Bibliogr.: P. 203 (9 ref.) . - ISSN 0925-8388 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ФТОРИДЫ -- ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ -- ПОКРЫТИЕ -- КАРБИД ТАНТАЛА |
E 43 Electrodeposition of aluminum from molten AlCl3-NaCl-KCl mixture [Text] / M. Jafarian [et al.] // Journal of Applied Electrochemistry. - 2006. - V. 36, N. 10. - P1169 - 1173. - Bibliogr.: P. 1173 (29 ref.) . - ISSN 0021-891X Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ХЛОРИДЫ -- ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ -- ПОКРЫТИЕ -- ВОЛЬТАМПЕРОМЕТРИЯ -- ХРОНОПОТЕНЦИОМЕТРИЯ -- КОЭФФИЦИЕНТЫ ДИФФУЗИИ |
М 20 Малышев, В. В. Физико-химические свойства гальванопокрытий на основе карбида вольфрама и диборида циркония на сталях [Текст] / В. В. Малышев, А. И. Габ // Защита металлов. - 2007. - Т. 43, № 1. - С. 50-54 : рис. - Библиогр.: с. 54 (12 назв.) Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ФТОРИД -- ВОЛЬФРАМАТЫ -- КАРБОНАТ -- КАРБИД -- ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ -- ПОКРЫТИЕ -- ВОЛЬТАМПЕРОМЕТРИЯ |
М 20 Малышев, В. В. Электроосаждение и свойства гальванических покрытий Mo(W)-Ni(Co) [Текст] / В. В. Малышев, В. И. Пожуев // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования . - 2007. - № 2. - С. 94-100 : рис., табл. - Библиогр.: с. 100 (23 назв.) . - ISSN 0207-3528 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ВОЛЬФРАМ -- ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ -- ПОКРЫТИЕ -- ВОЛЬТАМПЕРОМЕТРИЯ -- Ni, W, Mo |
P 78 Po-Yu Chen The electrodeposition of Mn and Zn-Mn alloys froom the room-temperature tri-1-butylmethymmonium bis (( trifluoromethane) sulfony1) imide ionic liduid [Текст] / Po-Yu Chen, Charles L. Hussey // Electrochimica Acta . - 2007. - Vol. 52, № 5. - С. 1857-1864 : табл. - Библиогр.: с. 1864 (44ref.) . - ISSN 0013-4686 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): Mn -- Zn -- ОРГАНИЧЕСКИЕ РАСПЛАВЫ -- ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ -- СПЛАВЫ -- ПОКРЫТИЕ |
П 12 Павловский, В. А. Особенности электроосаждения танталовых покрытий во фторидном расплаве [Текст] / В. А. Павловский // Защита металлов. - 2007. - Т. 43, № 3. - С. 303-306 : рис. - Библиогр.: с. 306 ( 15 назв.) . - ISSN 0044-1856 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ФТОРИДЫ -- ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ -- ПОКРЫТИЕ |
М 20 Малышев, В. В. Теоретические основы и практическая реализация электроосаждения молибдена в ионных расплавах [Текст] / В. В. Малышев // Теоретические основы химической технологии. - 2007. - Т. 41, № 3. - С. 302-318 : рис. - Библиогр.: с. 315-318 ( 99 назв.) Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ -- КИНЕТИКА -- РАВНОВЕСНЫЙ ПОТЕНЦИАЛ -- ХИМИЧЕСКИЕ РЕАКЦИИ -- ПОРОШКИ -- ПОКРЫТИЕ -- Mo |
H 88 Huang Yongzhong. Покрытие катодов электролизеров диборидом титана [] / Yongzhong. Huang, Wang Huazhang. Liu Yexiang. // Zhongguo youse jinshu xuebao = Chin. J. Nonfferrous Metals. - 1996. - 6, 2, 19-22. - РЖ Металлургия. - 1997: 3Г81 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ПОКРЫТИЯ, БОРИДЫ, TI, ЭЛЕКТРОЛИЗ, AL |
L 27 Lantelme, F. Использование нестационарных электрохимических методов для изучения электроосаждения ниобия из расплава NaCl-KCl [] / F. Lantelme, Y. Bergorete // J. Electrochem. Soc. - 1994. - 141, 12, 3306-3311. - РЖ Химия. - 1996: 5Л182 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): NA, CL, K, ХЛОРИДЫ, NB, КИНЕТИКА, ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ, ПОКРЫТИЕ |
Э 45 Электрохимическое осаждение и свойства вольфрамовых покрытий из вольфраматно-боратных расплавов [] / В. В. Малышев, Н. Н. Ускова, С. Ю. Сарычев, В. И. Шаповал // Защита металлов. - 1996. - Т. 32, № 6. - С. 653-657 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ВОЛЬФРАМАТЫ -- ПОКРЫТИЕ -- ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ -- КИНЕТИКА -- ОКСИДЫ |
Y 18 Yang Zixia. Бороалитирование в соляной ванне и его применение [] / Zixia. Yang, Zhongxina. Dai // Jinshu rechuli = Heat Treat. Metals. - 1995. - № 8. - С. 16-18. - РЖ Коррозия и защита от коррозии. - 1996: 10.66.233 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): БОРАТЫ -- ОКСИДЫ -- ПОКРЫТИЕ |
К 88 Кудяков, В. Я. Бестоковая кристаллизация серебра на титане в солевых расплавах [] / В. Я. Кудяков, Шардаков Н. Т. Шардакова Г.Н. // Расплавы. - 1997. - 4, 78-83 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ |
М 55 Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбид-NH4Cl [Текст] / А. В. Савчук [и др.] // Украинский химический журнал. - 2008. - Т. 74, № 3-4. - С. 31-33 : рис. - Библиогр.: с. 33 (7 назв.) . - ISSN 0041-6045 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ОРГАНИЧЕСКИЙ РАСПЛАВ -- ВОЛЬТАМПЕРОМЕТРИЧЕСКИЙ МЕТОД -- РАСТВОРЕНИЕ -- КАТОДНЫЙ ПРОЦЕСС -- ПОРОШКИ -- ПОКРЫТИЕ |
L 82 Liu X. Low-Temperature Preparation of Titanium Carbide Coatings on Graphite Flakes from Molten Salts [Текст] / Liu X., Zhang S. // Journal of the American Ceramic Society. - 2008. - Vol. 91, № 2. - С. 667-670. - Библиогр.: с. 670 (13 ref.) . - ISSN 0002-7820 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ПОКРЫТИЕ -- KCl -- Ti -- C |
К 89 Кузнецов, С. А. Металлизация стеклокерамических оболочек и оксидных материалов в солевых расплавах [Текст] / С. А. Кузнецов, В. Т. Калинников // Физика и химия стекла. - 2008. - Т. 34, № 5. - С. 748-758 : граф. - Библиогр.: с. 757-758 (11 назв.) . - ISSN 0132-6651 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ |
Э 45 Электрохимическое поведение серебра в карбамид-хлоридном расплаве [Текст] / С. А. Кочетова [и др.] // Украинский химический журнал. - 2008. - Т. 74, № 11. - С. 41-43. - Библиогр.: с. 43 (12 назв.) . - ISSN 0041-6045 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ХЛОРИД -- КАРБАМИД -- КАТОДНЫЙ ПРОЦЕСС -- АНОДНЫЙ ПРОЦЕСС -- КОМПЛЕКСООБРАЗОВАНИЕ -- ЭЛЕКТРОЛИЗ -- ПОКРЫТИЕ -- Ag -- BA |
M 85 Morphology and Mechanical Properties of TiB2 Coatings Deposited from Chloride-Fluoride Melts by Pulse Electroplating / N. Rybakova [и др.] // ournal of The Electrochemical Society. - 2009. - Vol. 156, № 4. - С. D131-D137 : рис. - Библиогр. : с. D137 (37 ref.) . - ISSN 0013-4651 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ -- ИМПУЛЬСЫ ТОКА -- ПОКРЫТИЕ -- Na -- K -- F -- Cl -- K2TIF6 -- KBF4 -- TiB2 |