Э 45 Электрохимическое поведение галогенидно-оксидных криолит-молибден(вольфрам)содержащих расплавов и электроосаждение из них молибденовых (вольфрамовых) покрытий [] / В. В. Малышев [и др.] // Расплавы. - 2000. - N 1. - С. 62-68. - Библиогр.: 21 назв. . - ISSN 0235-0106 Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ПОВЕДЕНИЕ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЕ -- ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЕ ПОВЕДЕНИЕ -- РАСПЛАВЫ ГАЛОГЕНИДНО-ОКСИДНЫЕ -- ГАЛОГЕНИДНО-ОКСИДНЫЕ РАСПЛАВЫ -- РАСПЛАВЫ КРИОЛИТ-МОЛИБДЕНСОДЕРЖАЩИЕ -- КРИОЛИТ-МОЛИБДЕНСОДЕРЖАЩИЕ РАСПЛАВЫ -- РАСПЛАВЫ КРИОЛИТ-ВОЛЬФРАМСОДЕРЖАЩИЕ -- КРИОЛИТ-ВОЛЬФРАМСОДЕРЖАЩИЕ РАСПЛАВЫ -- ФТОРИД-ИОНЫ -- ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ ПОКРЫТИЙ -- ПОКРЫТИЯ ВОЛЬФРАМОВЫЕ -- ВОЛЬФРАМОВЫЕ ПОКРЫТИЯ -- ПОКРЫТИЯ МОЛИБДЕНОВЫЕ -- МОЛИБДЕНОВЫЕ ПОКРЫТИЯ -- ВОЛЬФРАМ -- МОЛИБДЕН -- W -- Mo -- КОМПЛЕКСЫ ФТОРИДНЫЕ -- ФТОРИДНЫЕ КОМПЛЕКСЫ -- ЭЛЕКТРОВОССТАНОВЛЕНИЕ -- ФТОРАЛЮМИНАТ-ИОНЫ -- ХИМИЯ Аннотация: Изучено влияние фторид-иона и фторидных комплексов фторалюминат-ионов на процесс электровосстановления молибдат- и вольфрамат-ионов на фоне расплавов хлорида натрия.Из этих расплавов осуществлено электроосаждение молибденовых и вольфрамовых покрытий |
П 53 Получение высокочистых электролитических молибденовых покрытий на никеле [] / В. Н. Колосов [и др.] // Неорганические материалы. - 2001. - Т. 37, N 12. - 1480-1487: ил. - Библиогр.: с. 1486-1487 (23 назв.) . - ISSN 0002-337X Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ХИМИЯ -- НИКЕЛЬ -- Ni -- ПОКРЫТИЯ МОЛИБДЕНОВЫЕ -- МОЛИБДЕНОВЫЕ ПОКРЫТИЯ -- ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИЕ ПОКРЫТИЯ -- ПОКРЫТИЯ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИЕ -- СВЧ-УСТРОЙСТВА -- ВЫСОКОЧИСТЫЕ ПОКРЫТИЯ -- ПОКРЫТИЯ ВЫСОКОЧИСТЫЕ -- ЭЛЕКТРОЛИЗ -- CaCl2-CaMoO4-CaO -- CaCl2 -- CaMoO4 -- CaO -- Ca -- КАЛЬЦИЙ -- ОКСИД КАЛЬЦИЯ -- МОЛИБДАТ КАЛЬЦИЯ -- ХЛОРИД КАЛЬЦИЯ Аннотация: Показана возможность получения электролизом из расплава системы CaCl2-CaMoO4-CaO высокочистых молибденовых покрытий на никеле, пригодных для использования в качестве материала матриц сверхпроводящих СВЧ-устройств. Установлено, что загрязнения молибдена никелем имеет локальный характер, поэтому при формировании матриц толщина слоя молибдена определяется лишь требованиями качественного проведения механической и других видов полировок его поверхности |
Э 45 Электрохимическое осаждение покрытий карбидов молибдена и вольфрама с использованием материала электрода (алмаза) в качестве компонента синтеза [] / В. В. Малышев [и др.] // Журнал неорганической химии. - 1997. - Т. 42, N 9. - С. 1476-1479. - Библиогр.: 13 назв. . - ISSN 0044-457X Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ Кл.слова (ненормированные): ХИМИЯ -- ОСАЖДЕНИЕ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЕ -- ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЕ ОСАЖДЕНИЕ -- КАРБИД ВОЛЬФРАМА -- КАРБИД МОЛИБДЕНА -- ПОКРЫТИЯ МОЛИБДЕНОВЫЕ -- ПОКРЫТИЯ ВОЛЬФРАМОВЫЕ -- АЛМАЗЫ -- ВОЛЬФРАМ -- МОЛИБДЕН -- W -- Mo -- WC -- Mo2C |