Инвентарный номер: нет.
   
   В 58


   
    Влияние состава натриевоалюмоборосиликатных расплавов, содержащих оксиды никеля и кальция, на величину краевого угла на платине [] / Л. А. Носков [и др.] // Физика и химия стекла. - 2000. - Т. 26, N 5. - 696-701: ил. - Библиогр.: с. 700-701 (8 назв.) . - ISSN 0132-6651
ББК 54
Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ
Кл.слова (ненормированные):
НАТРИЕВОАЛЮМОБОРОСИЛИКАТНЫЕ РАСЛАВЫ -- РАСПЛАВЫ НАТРИЕВОАЛЮМОБОРОСИЛИКАТНЫЕ -- ПОВЕРХНОСТНОЕ НАТЯЖЕНИЕ -- НАТЯЖЕНИЕ ПОВЕРХНОСТНОЕ -- МЕЖФАЗНОЕ НАТЯЖЕНИЕ -- НАТЯЖЕНИЕ МЕЖФАЗНОЕ -- ТЕМПЕРАТУРНЫЕ ЗАВИСИМОСТИ -- ЗАВИСИМОСТИ ТЕМПЕРАТУРНЫЕ -- АДГЕЗИЯ -- РАБОТА АДГЕЗИИ -- ПЛАТИНА -- Pt -- УГОЛ КРАЕВОЙ -- КРАЕВОЙ УГОЛ -- МЕТОД МАЛОЙ КАПЛИ НА ТОНКОЙ НИТИ -- SiO2 -- Na2O -- B2O3 -- Al2O3 -- CaO -- NiO -- Si -- Na -- B -- Al -- КРЕМНИЙ -- НАТРИЙ -- БОР -- АЛЮМИНИЙ -- КАЛЬЦИЙ -- НИКЕЛЬ -- ДИОКСИД КРЕМНИЯ -- ОКСИД НАТРИЯ -- ОКСИД БОРА -- ОКСИД АЛЮМИНИЯ -- ОКСИД КАЛЬЦИЯ -- ОКСИД НИКЕЛЯ -- ХИМИЯ
Аннотация: Методом "малой капли на тонкой нити" исследовано влияние состава натриевоалюмоборосиликатных расплавов, содержащих оксиды никеля и кальция, на величину краевого угла на платине. Показано, что частичная (до 4 мол.%) взаимная замена оксидов кремния, алюминия и бора не приводит к существенному изменению краевого угла. Увеличение последнего установлено при частичной замене этих оксидов на оксид кальция, а уменьшение - при замене на оксид никеля. Так как в исследованной области составов поверхностное натяжение меняется незначительно, работа адгезии и межфазное натяжение на границе "расплав стекла - металлическая подложка" определяются величиной краевого угла. Максимальная работа адгезии и минимальное межфазное натяжение характерны для расплавов с повышенным содержанием оксида никеля, минимальная работа адгезии и максимальное межфазное натяжение - для расплавов с повышенным содержанием оксида кальция


Инвентарный номер: нет.
   
   В 58


   
    Влияние давления газа (Ar) на формирование пузырьковой структуры в пленке силикатного расплава [] / В. Б. Васнецова [и др.] // Физика и химия стекла. - 2000. - Т. 26, N 5. - 711-717: ил. - Библиогр.: с. 717 (6 назв.) . - ISSN 0132-6651
ББК 54
Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ
Кл.слова (ненормированные):
ДАВЛЕНИЕ ГАЗА -- СТРУКТУРА ПУЗЫРЬКОВАЯ -- ПУЗЫРЬКОВАЯ СТРУКТУРА -- РАСПЛАВЫ СИЛИКАТНЫЕ -- СИЛИКАТНЫЕ РАСПЛАВЫ -- СИЛИКАТЫ РАСПЛАВЛЕННЫЕ -- РАСПЛАВЛЕННЫЕ СИЛИКАТЫ -- КОМПЛЕКСЫ КОМПЬЮТЕРИЗОВАННЫЕ -- КОМПЬЮТЕРИЗОВАННЫЕ КОМПЛЕКСЫ -- ТЕМПЕРАТУРНЫЕ ЗАВИСИМОСТИ -- ЗАВИСИМОСТИ ТЕМПЕРАТУРНЫЕ -- Ar -- АРГОН -- МЕТОД ДТА -- ПОВЕРХНОСТНОЕ НАТЯЖЕНИЕ -- НАТЯЖЕНИЕ ПОВЕРХНОСТНОЕ -- ХИМИЯ
Аннотация: С помощью компьютеризованного комплекса, включающего высокотемпературный микроскоп, цифровую видеокамеру, плату "ввода-вывода" и компьютер IBM-486, изучены прцессы формирования пузырьковой структуры в пленке силикатного расплава, полученного при оплавлении слоя порошка стекла. Показано, что при всех исследованных давлениях (0.2, 0.1 и 0.02 МПа) площадь удельной поверхности пузырьков и их объем со временем уменьшаются. Уменьшение числа пузырьков надежно зафиксировано только для давления 0.1 и 0.02 МПа. При давлении 0.2 МПа подобная зависимость наблюдается только на конечном этапе. Распределение пузырьков по размерам при давлениях 0.1 и 0.02 МПа описывается логарифмически нормальным законом, а при давлении 0.2 МПа существенно от него отличается


Инвентарный номер: нет.
   
   Ш 25


    Шардаков, Н. Т.
    Скорость роста, время жизни и максимальный диаметр пузырьков в пленке силикатного расплава [] / Н. Т. Шардаков, В. Я. Кудяков, В. Б. Васнецова // Физика и химия стекла. - 2000. - Т. 26, N 6. - 870-876: ил. - Библиогр.: с. 876 (7 назв.) . - ISSN 0132-6651
ББК 54
Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ
Кл.слова (ненормированные):
СКОРОСТЬ РОСТА -- ДИАМЕТР ПУЗЫРЬКОВ -- ПЛЕНКИ СИЛИКАТНОГО РАСПЛАВА -- СИЛИКАТНЫЕ РАСПЛАВЫ -- РАСПЛАВЫ СИЛИКАТНЫЕ -- СИЛИКАТЫ РАСПЛАВЛЕННЫЕ -- РАСПЛАВЛЕННЫЕ СИЛИКАТЫ -- АТМОСФЕРА АРГОНА -- ПУЗЫРЬКИ ГАЗОВЫЕ -- ГАЗОВЫЕ ПУЗЫРЬКИ -- ВРЕМЯ ЖИЗНИ ПУЗЫРЬКОВ -- ДАВЛЕНИЕ ЛАПЛАСА -- ЛАПЛАСА ДАВЛЕНИЕ -- ХИМИЯ
Аннотация: С помощью видеокомплекса, включающего высокотемпературный микроскоп, видеокамеру, плату "ввода-вывода", компьютер IBM-486, измерены скорость роста, время жизни, максимальный диаметр пузырьков в пленке силикатного расплава в атмосфере аргона при 770 C


Инвентарный номер: нет.
   
   В 19


    Васнецова, В. Б.
    Высокотемпературное окисление вольфрама, покрытого слоем стеклоэмалевого расплава [] / В. Б. Васнецова, Кудяков В. Я. Шардаков Н.Т. // Расплавы. - 1997. - 6, 63-66
ББК 24
Рубрики: ХИМИЧЕСКИЕ НАУКИ
Кл.слова (ненормированные):
W, СТЕКЛА, КОРРОЗИЯ