Главная Новые поступления Описание Шлюз Z39.50

Базы данных


Нанотехнологии - результаты поиска

Вид поиска
Каталог книг и продолжающихся изданий
Сводный каталог иностранных периодических изданий, имеющихся в библиотеках УрО РАН
Сводный каталог отечественных периодических изданий, имеющихся в библиотеках УрО РАН
Каталог диссертаций и авторефератов диссертаций УрО РАН
Каталог препринтов УрО РАН (1975 г. - )
Имидж-каталог отечественных книг (до 2010 г.)
Имидж-каталог иностранных книг (до 2010 г.)
Алфавитно-предметный указатель (АПУ) ЦНБ УрО РАН
Публикации об УрО РАН
Изобретения уральских ученых
Интеллектуальная собственность (статьи из периодики)
Нанотехнологии
Демидовские премии
Гибель династии Романовых
История Урала
Личная библиотека С. В. Вонсовского
Книжная коллекция Шубиных
Труды Института высокотемпературной электрохимии УрО РАН
Труды Института истории и археологии УрО РАН
Труды сотрудников Института горного дела УрО РАН
Труды сотрудников Института органического синтеза УрО РАН
Труды сотрудников Института теплофизики УрО РАН
Труды сотрудников Института химии твердого тела УрО РАН
Расплавы
Труды сотрудников ЦНБ УрО РАН
Публикации Черешнева В.А.
Публикации Чарушина В.Н.
Каталог библиотеки ИЭРиЖ УрО РАН
Электронная энциклопедия «Дискурсология»
Библиометрия
Область поиска
в найденном
 Найдено в других БД:Каталог книг и продолжающихся изданий (8)Каталог диссертаций и авторефератов диссертаций УрО РАН (4)Алфавитно-предметный указатель (АПУ) ЦНБ УрО РАН (5)
Формат представления найденных документов:
полный информационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>K=ТРАВЛЕНИЕ<.>)
Общее количество найденных документов : 23
Показаны документы с 1 по 10
 1-10    11-20   21-23 
1.

Вид документа : Статья из журнала
Шифр издания : 538.9/У 18
Автор(ы) : Уваров И. В., Наумов В. В., Амиров И. И.
Заглавие : Особенности изготовления металлических кантилеверов наноразмерной толщины
Место публикации : Нано- и микросистемная техника. - 2013. - № 11. - С. 5-9. - ISSN 1813-8586. - ISSN 1813-8586
Примечания : Библиогр.: с. 9 (17 назв.)
УДК : 538.9
ББК : 623.7
Предметные рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): наноэлектромеханические системы--наноконтилевер--плазменное травление--остаточные напряжения--термический отжиг--поверхность
Аннотация: Представлена методика изготовления металлических нанокантилеверов. Кантилеверы имели трехслойную структуру и изготавливались в двух вариантах: Cr/Al/Cr и Ti/Al/Ti. Толщина кантилеверов составляла 40, 80 и 120 нм. Отношение длины кантилевера к толщине достигало 2500. Освобождение кантилеверов выполнялось путем травления жертвенного слоя в плазме SFfi. При изготовлении кантилеверов Cr/Al/Cr применялся вакуумный термический отжиг. Для кантилеверов Ti/Al/Ti важным моментом являлся подбор режима освобождения
Найти похожие
2.

Вид документа : Статья из журнала
Шифр издания : 621.38+533.9/С 29
Автор(ы) : Милованов Р. А., Кельм Е. А., Косичкин О. А., Ляпунов Н. А.
Заглавие : Селективное травление меди в технологии анализа отказов ИМС с проводниками на основе меди
Место публикации : Нано- и микросистемная техника. - 2013. - № 11. - С. 30-32. - ISSN 1813-8586. - ISSN 1813-8586
Примечания : Библиогр.: с. 32 (8 назв.)
УДК : 621.38+533.9
ББК : 623.7
Предметные рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): анализ отказов--система межсоединений--медь--жидкохимическое травление--сухое травление--диффузионно-барьерный слой
Аннотация: Одним из этапов анализа отказов микросхем с системой межсоединений на основе меди является удаление слоя проводников. При этом основным требованием, которое предъявляется к процедуре травления, является селективность к диффузионно-барьерному слою, обеспечивающая полное удаление слоя проводников без повреждения нижележащего слоя. В работе рассмотрены подходы по селективному травлению медных проводников на основе использования методов жидкого и сухого травления. Результаты исследований показаны на примере кристаллов ПЛИС Virtex-4 фирмы Xilinx
Найти похожие
3.

Вид документа : Статья из журнала
Шифр издания : 620.3/К 89
Автор(ы) : Кузнецова М. А., Лучинин В. В.
Заглавие : Формирование карбидокремниевых автоэмиссионных острий методом остросфокусированного ионного пучка
Место публикации : Нано- и микросистемная техника . - 2012. - № 12. - С. 35-40: рис., табл. - ISSN 1813-8586. - ISSN 1813-8586
Примечания : Библиогр.: с. 40 (5 назв.)
УДК : 620.3
ББК : 623.7
Предметные рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): пучок ионный--диод--травление ионно-стимулированное--осаждение ионно-стимулированное--эмиссия автоэлектронная--карбид кремния
Аннотация: Представлены результаты комплексного анализа возможностей и ограничений на применение остросфокусированного ионного пучка для объектов микросистемной техники (МСТ) и различных методов исследований. Детально проанализированы особенности применения данной технологии на примере создания карбидокремниевых автоэмиссионных острий и диодных структур на их основе
Найти похожие
4.

Вид документа : Статья из журнала
Шифр издания : 620.3/С 71
Автор(ы) : Дунаев А. В., Пивоваренок С. А., Капинос С. П., Ефремов А. М., Светцов В. И.
Заглавие : Спектральный контроль процесса травления арсенида галлия в хлороводороде
Место публикации : Нанотехника. - 2012. - № 1. - С. 93-95: рис. - ISSN 1816-4498. - ISSN 1816-4498
Примечания : Библиогр.: с. 95 (5 назв.)
УДК : 620.3
ББК : 623.7
Предметные рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): травление--контроль --спектр--хлороводород--травление плазмохимическое--арсенид галлия
Аннотация: Было выполнено исследование спектров плазмохимического травления GaAs в HCl. На обзорных спектрах выбраны контрольные линии и полосы. На временных зависимостях интенсивности излучения продуктов травления (в частности, линии атомарного Ga) в начале процесса обработки наблюдается нестационарный участок продолжительностью около 1 мин. Соотношение интенсивности излучения продуктов и скорости травления носит прямопропорциональный характер. Это свидетельствует о возможности спектрального контроля процесса травления в реальном времени
Найти похожие
5.

Вид документа : Статья из журнала
Шифр издания : 620.3/Т 38
Автор(ы) : Зимина Т. М., Муратова Е. Н., Спивак Ю. М., Дрозд В. Е., Романов А. А.
Заглавие : Технологии формирования и применение нанослоев и нанопористых композиций Аl 2О 3 для микро-и нанотехники
Место публикации : Нано- и микросистемная техника . - 2012. - № 12. - С. 15-24: рис., табл. - ISSN 1813-8586. - ISSN 1813-8586
Примечания : Библиогр.: с. 24 (52 назв.)
УДК : 620.3
ББК : 623.7
Предметные рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): биосенсоры--лаборатории на чипе--анодирование электрохимическре--сборка атомно-молекулярная химическая--нанослои оксида алюминия --оксид алюминия пористый
Аннотация: Рассмотрены основные технологические подходы формирования нанослоев и композиций с различными характеристиками на основе оксида алюминия, а именно, атомно-молекулярное наслаивание и электрохимическое травление. Приведен краткий обзор основных современных областей применения оксида алюминия в форме нанослоевых композиций, нанопористых композиций, модифицированных металлом, и макропористых систем
Найти похожие
6.

Вид документа : Статья из журнала
Шифр издания : 53.06/И 75
Автор(ы) : Абдуллаев Д. А., Зайцев А. А., Кельм Е. А., Милованов Р. А.
Заглавие : Ионно-лучевое травление как промежуточная стадия при удалении пассивируюших слоев микросхем в рамках технологии анализа отказов
Место публикации : Нано- и микросистемная техника. - 2013. - № 11. - С. 35-39. - ISSN 1813-8586. - ISSN 1813-8586
Примечания : Библиогр.: с. 39 (3 назв.)
УДК : 53.06
ББК : 623.7
Предметные рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): ионно-лучевое травление--реактивно-ионное плазменное травление--планаризация микрометрового рельефа сбис--технология анализа отказов
Аннотация: Представлены результаты серии экспериментов по удалению пассивации СБИС с промежуточной планаризацией субмикрометрового рельефа методами ионно-лучевого травления в рамках технологии анализа отказов. Определены оптимальные параметры планаризации микрометрового рельефа
Найти похожие
7.

Вид документа : Статья из журнала
Шифр издания :
Автор(ы) : Гринькин Е. А., Жукова С. А., Обижаев Д. Ю., Тютюгин А. В., Турков В. Е.
Заглавие : Кинетика травления неорганического "жертвенного" слоя при изготовлении чувствительных элементов инерциальных датчиков по технологии кремний-на-изоляторе
Место публикации : Нано- и микросистемная техника. - 2014. - № 7. - С. 38-43. - ISSN 1813-8586. - ISSN 1813-8586
Примечания : Библиогр.: с. 42 (4 назв.)
УДК : 546.284-31 + 531.768 + 531.77
ББК : 623.7
Предметные рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): "жертвенный" слой--диоксид кремния--травление--плавиковая кислота
Аннотация: Исследован процесс травления неорганического "жертвенного" слоя в трехслойных подложках кремний-на-изоляторе. Представлены результаты исследования кинетики травления диоксида кремния в парах водного раствора плавиковой кислоты в зависимости от продолжительности процесса и температуры поверхности образцов. Показано увеличение скорости процесса по мере травления и при уменьшении температуры
Найти похожие
8.

Вид документа : Статья из журнала
Шифр издания : 544.5/Г 69
Автор(ы) : Горнев Е. С., Янович С. И.
Заглавие : Процесс реактивно-ионного травления контактных окон в смеси на основе C4F 8 для технологии менее 0,25 мкм
Место публикации : Нано- и микросистемная техника. - 2014. - № 8. - С. 16-20: граф., рис. - ISSN 1813-8586. - ISSN 1813-8586
Примечания : Библиогр.: с. 19 (6 назв.)
УДК : 544.5
ББК : 623.7
Предметные рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): реактивно-ионное травление--c4f8--контактные окна--0, 25 мкм
Аннотация: Настоящая работа призвана показать, что при реактивно-ионном травлении в классических реакторах с вращающимся магнитным полем и использованием C 4F 8 в качестве основного травящего агента для травления контактных окон в технологических процессах создания интегральных схем с минимальными элементами от 0,25 мкм и менее не только применима, но и демонстрирует улучшение анализируемого процесса в отношении элементов с меньшими размерами. Кроме того, представленные в статье исследования могут быть полезны с методологической точки зрения при описании других процессов травления
Найти похожие
9.

Вид документа : Статья из журнала
Шифр издания : 621.9.047.7/Г 16
Автор(ы) : Галперин В. А., Разживин Н. А.
Заглавие : Исследование процесса контролируемого плазменного сокращения размеров затвора
Место публикации : Нано- и микросистемная техника. - 2014. - № 6. - С. 12-15: табл., граф. - ISSN 1813-8586. - ISSN 1813-8586
Примечания : Библиогр.: с. 15 (8 назв.)
УДК : 621.9.047.7
ББК : 623.7
Предметные рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): реактивно-ионное травление--плазма--профиль травления--тримминг резиста
Аннотация: Приведены результаты исследования процесса тримминга маски, протекающих механизмов реакций и совместимости с процессом травления поликремния. Получены зависимости и оптимальные значения основных технологических параметров стадий, определяющих качество процесса. Проведена оценка влияния параметров и реагентов стадии тримминга на получаемый линейный размер формируемых элементов поликремния, равномерность и минимизацию эффекта микрозагрузки. Сформирован комплекс мер по оптимизации и стабилизации процесса и получению профиля травления с требуемым размером формируемых элементов в условиях опытного производства
Найти похожие
10.

Вид документа : Статья из журнала
Шифр издания : 53.06:661.55/А 13
Автор(ы) : Абдуллаев Д. А., Зайцев А. А., Кельм Е. А.
Заглавие : Селективное плазмохимическое травление нитрида кремния относительно оксида кремния
Место публикации : Нано- и микросистемная техника. - 2014. - № 2. - С. 17-19. - ISSN 1813-8586. - ISSN 1813-8586
Примечания : Библиогр.: с. 17 (3 назв.)
УДК : 53.06:661.55
ББК : 623.7
Предметные рубрики: ТЕХНИКА. ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): плазохимическое травление (пхт)--селективное травление--нитрид кремния--оксид кремния--пассивационные слои--интегральная микросхема (имс)
Аннотация: Представлены результаты серии экспериментов по определению параметров селективного плазмохимического травления нитрида кремния относительно оксида кремния
Найти похожие
 1-10    11-20   21-23 
 
Описание базы данных
Стандартный
По словарю
Расширенный
ГРНТИ-навигатор
Статистика обращений

Сиглы отделов ЦНБ УрО РАН


  бр.ф. - Бронированный фонд

  бф - Научно-библиографический отдел

  БХЛ - Фонд художественной литературы

  ИИиА -Фонд исторической литературы в ЦНБ УрО РАН

  ИМЕТ -Отдел ЦНБ в Институте металлургии УрО РАН

  кх - Отдел фондов (книгохранениe)

  МБА - Межбиблиотечный абонемент

  мф - Методический фонд

  ок - Отдел научной каталогизации

  оку - Отдел комплектования и учета

  орф - Обменно-резервный фонд

  пф - Читальный зал деловой и патентной информации

  рк - Фонд редкой книги

  ч/з - Главный читальный зал

  эр - Зал электронных ресурсов

  

Сиглы библиотек институтов и НЦ УрО РАН
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)
Яндекс.Метрика