Deposition of Al2O3 coatings in Ar-O2 low-pressure discharge plasma under high dissociation degree of O2

Deposition of Al2O3 coatings in Ar-O2 low-pressure discharge plasma under high dissociation degree of O2 / P. V. Tretnikov, N. V. Gavrilov, A. S. Kamenetskikh [et al.] // 5th International Conference "Gas Discharge Plasmas and Their Applications" (GDP 2021) : abstracts, September 5-10, 2021, Ekaterinburg, Russia. - Ekaterinburg, 2021. - C. 105.

Документ доступен в ЦНБ УрО РАН: 

Нет

Год: 

2021

Связанные персоналии: 

Нет

Рубрики: 

  • Физика

Вид издания: 

  • тезисы


h1