Исследован фотолитический распад смеси Трихлорбифенил, 2,4,5- и 2,4,6-трихлорбифенилов под действием ультрафиолетового излучения в присутствии оксида вольфрама как катализатора в среде метанола. Установлена большая скорость фотолиза индивидуальных конгенеров полихлорбифенилов по сравнению с конгенерами из смеси Трихлорбифенил. Рассмотрено влияние особенностей строения полихлораренов на глубину фотораспада и направления образования продуктов фотодеструкции.