Особенности фотолиза трихлорбифенилов

Особенности фотолиза трихлорбифенилов / Т. И. Горбунова, М. Г. Первова, Г. С. Захарова [и др.] // Журнал общей химии. - 2023. - Т. 93, № 11. - С. 1736-1743.

Документ доступен в ЦНБ УрО РАН:

Нет

Год:

2003

Связанные персоналии:

Нет

Вид издания:

статья из журнала

Коллекции:

Нет

h1

Публичные страницы

Сканированный текст не найден

Аннотация

Исследован фотолитический распад смеси Трихлорбифенил, 2,4,5- и 2,4,6-трихлорбифенилов под действием ультрафиолетового излучения в присутствии оксида вольфрама как катализатора в среде метанола. Установлена большая скорость фотолиза индивидуальных конгенеров полихлорбифенилов по сравнению с конгенерами из смеси Трихлорбифенил. Рассмотрено влияние особенностей строения полихлораренов на глубину фотораспада и направления образования продуктов фотодеструкции.