Одной из важнейших технологий создания устройств микро- и наноэлектроники являются различные методы напыления материалов. Наиболее перспективным методом с точки зрения получения широкого спектра материалов, является метод вакуумного реактивного магнетронного распыления. В рамках работы была разработана и создана установка реактивного магнетронного распыления промышленно типа, с оригинальной магнитной системой собственной разработки с повышенным КПД и безмасляной системой откачки реакционной камеры для получения высокочистых покрытий. Кроме того, было проведено напыление пленок хрома на кремниевую пластину диаметром 76 мм.