Ионно-лучевое формирование буферного слоя в низкоразмерной гетеросистеме SiO / SiO2 при имплантации ионами Si+: рентгеновские Si L2,3 эмиссионные спектры

Зацепин А. Д. Ионно-лучевое формирование буферного слоя в низкоразмерной гетеросистеме SiO / SiO2 при имплантации ионами Si+: рентгеновские Si L2,3 эмиссионные спектры / А. Д. Зацепин, S. Kaschieva, С. Н. Шамин // Третья всероссийская конференция по наноматериалам (НАНО 2009), Екатеринбург, 20-24 апреля 2009 г. : тез. докл. / РАН, УрО, Ин-т физики металлов [и др.]. - Екатеринбург, 2009. - С. 185-186.

Год: 

2009

Связанные персоналии: 

Нет

Рубрики: 

  • Техника. Технические науки, Технология металлов. Машиностроение. Приборостроение, Физика

Вид издания: 

  • тезисы


h1